微蚀液包括过硫酸钠/硫酸体系和双氧水/硫酸体系,在近几年的运用在PCB之表面处理制程,例如:沉铜(PTH)制程,电镀制程、内层前处理、绿油前处理、OSP处理等生产线。我们公司目前对过硫酸钠/硫酸和双氧水/硫酸两种体系的微蚀工序研发设计了不同的循环再生设备。无论是过硫酸钠/硫酸体系还是双氧水/硫酸体系,我司设备均可把饱和微蚀液处理再生后,返回客户生产线继续使用,回用时,不改变客户原生产工艺参数;在运行我们公司设备时可不停机亦可更换药水,从而达到稳定生产的目的。这两种体系再生设备设备不仅可以节省约30%的物料成本,还降低废水处理成本,且可以电解出金属铜。二、蚀刻液再生循环系统在电子线路版(PCB)蚀刻过程中,蚀刻液中的铜含量渐渐增加。蚀刻液要达到的蚀刻效果,每公升蚀刻液需含120至180克铜及相应分量的蚀刻盐(NH4CI)及氨水(NH3)。要持续蚀刻液中上述各种成份的浓度水平,蚀刻用过后的(以下称[用后蚀刻液])溶液需不断由添加的药剂所取缔。本系统将大量原本需要排放的用后蚀刻液再生还原成为可再次使用的再生蚀刻液。只需极少量的补充剂及氨水,补偿因运作时被带走而失去的部份。从而取代蚀刻子液,既可达到蚀刻工艺的要求。苏州博洋生产BOE蚀刻液。福建哪些新型BOE蚀刻液产品介绍
离子膜电解法是电解槽30阳极可以为石墨板或钛阳极板,阴极为钛板,用离子膜将阳极液和阴极液隔离开,阳极为需要再生的蚀刻母液,阴极为铜离子20~100g/l,酸度,电解槽30由数个单元电解槽串联组成,单元电解槽30由一个或者数个阳极模框组成,酸性蚀刻废液经循环槽20阳极循环区229进入电解阳极区301,溢流回循环槽20蚀刻循环区230。调整好循环槽20的阴极循环区231的开槽铜离子浓度20~100g/l,经电解槽30阴极然后溢流回循环槽20阴极循环区231完成正常循环,电解过程中阴极钛板生成金属铜,一定时间后铜可以剥离下来,剩下的废水成为再生液,再生液因电解使铜离子浓度越来越低,酸度上升,同时比重下降时,通过比重自动添加器添加母液来提高再生液铜离子的浓度。当循环槽20阳极循环区229铜离子因蚀刻线生产使铜离子升高,比重上升时,通过比重自动添加器添加再生液,完成盐酸添加。电流由orp检测自动控制器控制,orp一般控制在300~600mv,其电流密度相应控制在0~9000ma/dm2。当orp偏低时orp检测自动控制器自动上调电流,使蚀刻液废液中的cu+离子通过阳极氧化重新转变为cu2+离子而恢复其蚀刻能力,当orp偏高时orp检测器自动降低电流防止氯气的产生。上海电子级BOE蚀刻液销售电话博洋化学BOE蚀刻液的专业供应商。
在PCB行业中会产生大量微蚀液、蚀刻液、硝酸铜等含有不同浓度的重金属废水,如果不进行处理就直接排放一方面造成资源的严重浪费,另一方面还会严重影响我们环境和自身健康! 以前对于这些废液的处理方法是通过投加大量的药剂实现的,但是传统的加化学药剂,操作成本高,且造成大量铜污泥产生及排放废水导电度过高(溶解性盐类造成),导致废水回用难度加大或者根本无法回收使用的后续问题。因此现在一般都是使用提取再生的方式,蚀刻液提取再生的方法有酸性、碱性两大系统,可将大量的废蚀刻液提取再生成为新的蚀刻液。从而减少生产废液的排放,回用降低生产成本,且可提取出高纯度电解金属铜。 酸性蚀刻生产线——废液收集槽——中间储存罐——电解槽——配药槽——再生液储存罐——添加槽 碱性蚀刻生产线——废液收集——萃铜及废液再生——调配——氨水洗收集——铜回收及氨水洗再生——再生水储存——反萃——电解——出铜
多级逆流萃取CWL-M系列离心萃取机是郑州天一萃取科技有限公司自主研发生产的新型、快速、高效的液液萃取分离设备,主要应用于萃取、反萃、水洗、碱洗、酸洗等洗涤段的操作单元。离心萃取机的优势在于易维护、处理量大、功耗低、材质耐腐蚀等,同时克服了传统萃取设备不易维护、故障频繁等难题,被应用于化工、湿法冶金、环保等众多领域。多级逆流萃取目前用的比较多的设备有:离心萃取机、萃取澄清槽、萃取塔。其中,取近几年推出的新型CWL-M离心萃取机是目前广为采用的,该系列离心萃取机处理量大、萃取效率高、可连续操作、分离效果较好、耐酸碱环境。主要有萃取法、金属置换法、电解还原法等,其中溶剂萃取法通过萃取工艺技术可有效分离废液中的镍离子,使镍得到回收,废液得到再生经济价值高,回收效果好。目前用的比较多的设备有:离心萃取机、萃取澄清槽、萃取塔。其中,郑州天一萃取近几年推出的新型CWL-M离心萃取机是目前广为采用的。该系列离心萃取机处理量大、萃取效率高、可连续操作、分离效果较好、耐酸碱环境。主要有萃取法、金属置换法、电解还原法等,其中溶剂萃取法通过萃取工艺技术可有效分离废液中的镍离子,使镍得到回收,废液得到再生经济价值高。选择苏州博洋化学股份有限公司,安心,放心,舒心。
BOE就是buffer oxide etch,缓冲氧化物刻蚀液。由氢氟酸(49%)与水或氟化铵与水混合而成, B.O.E 缓冲蚀刻液 BOE是HF与NH4F依不同比例混合而成。6:1 BOE蚀刻即表示49%HF水溶液:40%NH4F水溶液=1:6(体积比)的成分混合而成。刻蚀速度约10nm每秒。HF为主要的蚀刻液,NH4F则作为缓冲剂使用。利用NH4F固定〔H+〕的浓度,使之保持一定的蚀刻率。HF会浸蚀玻璃及任何含硅石的物质,对皮肤有强烈的腐蚀性,如果不小心被溅到,应用大量水冲洗。BOE蚀刻液的溶液成分。上海技术密集BOE蚀刻液产品介绍
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高蚀刻速率无残留酸性铝蚀刻液生产装置,包括装置主体、支撑腿、电源线和单片机,所述装置主体的底端固定连接有支撑腿,所述装置主体的后面一侧底部固定连接有电源线,所述装置主体的一侧中间部位固定连接有控制器,所述装置主体的内部底端一侧固定连接有单片机,所述装置主体的顶部一端固定连接有去离子水储罐,所述装置主体的顶部一侧固定连接有磷酸储罐,所述磷酸储罐的底部固定连接有搅拌仓,所述搅拌仓的内部顶部固定连接有搅拌电机,所述搅拌仓的另一侧顶部固定连接有醋酸储罐,所述装置主体的顶部中间一侧固定连接有硝酸储罐,所述装置主体的顶部中间另一侧固定连接有阴离子表面活性剂储罐,所述阴离子表面活性剂储罐的另一侧固定连接有聚氧乙烯型非离子表面活性剂储罐,所述装置主体的顶部另一侧固定连接有氯化钾储罐,所述装置主体的顶部另一端固定连接有硝酸钾储罐,所述装置主体的内部中间部位固定连接有连接构件,所述装置主体的内部底部中间部位固定连接有常闭式密封电磁阀,所述连接构件的内侧固定连接有过滤部件,所述装置主体的内部底端另一侧固定连接有收集仓,所述收集仓的另一侧底部固定连接有密封阀门,所述过滤部件的顶端两侧活动连接有滑动盖。福建哪些新型BOE蚀刻液产品介绍
苏州博洋化学股份有限公司成立于1999年,公司座落于苏州市高新区化工工业园,是一家集研发、生产、销售为一体的大型精细化工企业,主要为先进半导体封装测试、TFT、FPD平板显示、LED、晶体硅太阳能、PCB等行业提供专业的化学品解决方案。努力构建面向未来的创新型和学习型企业。博洋股份于2015年11月在全国中小企业股份转让系统成功挂牌。(证券代码:834329)拥有先进的理化分析、应用测试仪器以及一支以本科、硕士、博士为主的多层次研发团队,致力于超净高纯、功能性微电子化学品的研究开发;并根据客户的个性化需求量身定制整套化学品解决方案,力求持续的为客户创造价值。博洋除拥有完善的自主研发能力外,与华东理工大学共同建立省级研究生工作站;长期保持与苏州大学、中科院苏州纳米技术与纳米仿生研究所的合作关系,以辅助新产品的开发测试。对新技术、新工艺的研究精益求精,立志成为微电子材料领域个性化解决方案的***