BOE就是buffer oxide etch,缓冲氧化物刻蚀液。由氢氟酸(49%)与水或氟化铵与水混合而成, B.O.E 缓冲蚀刻液 BOE是HF与NH4F依不同比例混合而成。6:1 BOE蚀刻即表示49%HF水溶液:40%NH4F水溶液=1:6(体积比)的成分混合而成。刻蚀速度约10nm每秒。HF为主要的蚀刻液,NH4F则作为缓冲剂使用。利用NH4F固定〔H+〕的浓度,使之保持一定的蚀刻率。HF会浸蚀玻璃及任何含硅石的物质,对皮肤有强烈的腐蚀性,如果不小心被溅到,应用大量水冲洗。专业BOE蚀刻液厂家,苏州博洋化学股份有限公司欢迎您。上海介绍BOE蚀刻液主要作用
高蚀刻速率无残留酸性铝蚀刻液生产装置,包括装置主体、支撑腿、电源线和单片机,所述装置主体的底端固定连接有支撑腿,所述装置主体的后面一侧底部固定连接有电源线,所述装置主体的一侧中间部位固定连接有控制器,所述装置主体的内部底端一侧固定连接有单片机,所述装置主体的顶部一端固定连接有去离子水储罐,所述装置主体的顶部一侧固定连接有磷酸储罐,所述磷酸储罐的底部固定连接有搅拌仓,所述搅拌仓的内部顶部固定连接有搅拌电机,所述搅拌仓的另一侧顶部固定连接有醋酸储罐,所述装置主体的顶部中间一侧固定连接有硝酸储罐,所述装置主体的顶部中间另一侧固定连接有阴离子表面活性剂储罐,所述阴离子表面活性剂储罐的另一侧固定连接有聚氧乙烯型非离子表面活性剂储罐,所述装置主体的顶部另一侧固定连接有氯化钾储罐,所述装置主体的顶部另一端固定连接有硝酸钾储罐,所述装置主体的内部中间部位固定连接有连接构件,所述装置主体的内部底部中间部位固定连接有常闭式密封电磁阀,所述连接构件的内侧固定连接有过滤部件,所述装置主体的内部底端另一侧固定连接有收集仓,所述收集仓的另一侧底部固定连接有密封阀门,所述过滤部件的顶端两侧活动连接有滑动盖。上海介绍BOE蚀刻液主要作用优先苏州博洋化学股份有限公司。
在电子线路版(PCB)蚀刻过程中,蚀刻液中的铜含量渐渐增加。蚀刻液要达到比较好的蚀刻效果,每公升蚀刻液需含120至180克铜及相应分量的蚀刻盐(NH4CI)及氨水(NH3)。要持续蚀刻液中上述各种成份的浓度比较好水平,蚀刻用过后的(以下称[用后蚀刻液])溶液需不断由添加的药剂所取缔。本系统将大量原本需要排放的用后蚀刻液再生还原成为可再次使用的再生蚀刻液。只需极少量的补充剂及氨水,补偿因运作时被带走而失去的部份。从而取代蚀刻子液,既可达到蚀刻工艺的要求,又可节省生产成本。蚀刻液再生循环系统有酸性、碱性两大系统,两大系统又可分为萃取法、直接电解法。可将大量原本需要排放的用后蚀刻液还原再生成为可再次使用的再生蚀刻液。从而减少生产废液的排放,回用降低生产成本,且可提取出高纯度电解金属铜。
酸性蚀刻是制造印刷电路板过程中必不可少的工序,酸性蚀刻工序利用酸性蚀刻液在蚀刻机内完成。酸性蚀刻液包括酸性蚀刻子液和酸性蚀刻母液。通过再生循环方法提取铜回收废液继续使用,可以明显减少环境的污染,电解反应是通过阳极的氧化作用使一价铜变为二价铜,使得蚀刻液恢复再生能力,而阴极则通过还原作用来沉积铜,使得蚀刻液具备蚀刻的负载能力。但是会产生氯离子,阳极存在氯气析出的问题。氯气的析出不只危害了车间工人的健康,产生空气污染。BOE蚀刻液哪家强,苏州博洋。
Cu2+的蚀刻作用由次要地位而跃居主要地位,此时蚀刻速率慢,即应考虑蚀刻液的更新。一般工厂很少分析和测定蚀刻液中的含铜量,多以蚀刻时间和蚀刻质量来确定蚀刻液的再生与更新。蚀刻铜箔的同时,还伴有一些副反应,就是CuCl2和FeCl3的水解反应:FeCl3+3H2O→Fe(OH)3↓+3HClCuCl2+2H2O→Cu(OH)2↓+2HCl生成的氢氧化物很不稳定,受热后易分解:2Fe(OH)3→Fe2O3↓+3H2OCu(OH)2→CuO↓+H2O结果生成了红色的氧化铁和黑色的氧化铜微粒,悬浮于蚀刻液中,对抗蚀层有一定的破坏作用。2.影响蚀刻速率的因素Fe3+的浓度和蚀刻液的温度蚀刻液温度越高,蚀刻速率越快,温度的选择应以不损坏抗蚀层为原则。Fe3+的浓度对蚀刻速率有很大的影响。蚀刻液中Fe3+浓度逐渐增加,对铜的蚀刻速率相应加快。当所含Fe3+超过某一浓度时,由于溶液粘度增加,蚀刻速率反而有所降低。BOE蚀刻液的溶液配比。上海介绍BOE蚀刻液主要作用
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