随着电子、金属、矿冶等行业的快速发展,市场对去膜剂产品的要求不断提升,不仅需要满足高效去膜的需求,更对绿色安全、基材保护、制程适配等方面提出了更高标准。点石安达®紧跟行业发展趋势,依托博士研发团队的技术实力,持续迭代产品配方,优化产品性能,丰富产品品类,形成了覆盖多场景、多行业的去膜剂产品体系,涵盖选择性干膜去除剂、去膜剂、护锡去膜剂、铝保护剂、铝基板去膜剂、去膜加速剂、锡面保护剂等核心产品,覆盖金面去膜、铝基去膜、护锡同步、MSAP制程、干膜温和剥离、加速高效、锡面防护、精密加工等所有指定场景,切实满足不同行业客户的个性化需求。去膜加速剂配套使用,提升剥离速度,降低作业能耗。广州护锡去膜去膜剂全行业适配方案

普通金属产品包括钢铁、铜、锌等多种材质,广泛应用于机械、五金、建筑等行业,其生产过程中的去膜需求注重高效去膜、金属洁净脱膜、基材无损,点石安达®去膜剂能够精细适配普通金属产品的去膜需求。
在普通金属产品去膜场景中,点石安达®去膜剂能够快速去除金属表面的膜层、油污、锈迹等,实现金属洁净脱膜,去膜后无残留、无损伤,维持金属表面的光洁度,为后续表面处理、涂装等工序提供保障,契合金属洁净脱膜、表面处理的场景需求。
此外,点石安达®去膜剂的温和低蚀特性,能够保护普通金属基材,避免金属腐蚀,减少不良品率,提升制程良率提优效果;产品的绿色环保特性,能够减少金属生产过程中的环保污染,契合绿色生产理念;去膜加速剂能够提升去膜效率,缩短生产周期,降低生产成本。 深圳博士研发去膜剂实验室配方研发软板去膜选点石安达®,轻松去除无烦恼!

1.绿色安全,环保合规:采用环保型原料,无磷、无重金属、无有害挥发物,可生物降解,使用后废水易处理,符合国家环保标准,契合绿色生产理念,降低企业环保处理成本。
2.操作便捷,使用灵活:可采用浸泡、喷淋、擦拭等多种去膜方式,根据去膜场景与膜层厚度,灵活调整产品浓度与使用时间,无需复杂的设备与操作流程,降低人工操作难度。
3.品质稳定,批次一致:由博士研发团队全程把控配方,标准化生产流程与全流程品质检测,确保每一批产品的性能稳定、效果一致,能够满足企业连续化生产需求。
点石安达®去膜剂(通用型)适用于电子、金属、等行业的常规去膜场景,能够实现高效、安全、环保的去膜效果,为企业的生产提供坚实支撑,同时适配精密加工场景,确保去膜后基材表面洁净,满足后续加工需求。
半导体产品具有精度高、材质敏感等特点,对去膜剂的要求极高,注重低残留、温和无损伤、高洁净度,点石安达®去膜剂全系列产品能够精细适配半导体用去膜场景,满足半导体生产的精细去膜需求。
在半导体去膜场景中,点石安达®选择性干膜去除剂、去膜剂(通用型)能够温和去除半导体表面的膜层与干膜,无残留、无损伤,确保半导体的精度与性能,避免因去膜不当导致的半导体损坏,提升制程良率提优效果,契合精密加工的场景需求。 加速型去膜剂,提升处理效率,缩短制程作业时间。

软板具有柔韧性好、体积小、重量轻等特点,广泛应用于手机、电脑、智能设备等电子产品,软板生产过程中的去膜需求注重温和无损伤、无残留、适配柔韧性基材,点石安达®去膜剂全系列产品能够精细适配软板的去膜场景。在软板去膜场景中,点石安达®去膜剂、选择性干膜去除剂能够温和去除软板表面的膜层与干膜,无残留、无损伤,避免软板出现弯折断裂、基材损坏等问题,同时适配软板的柔韧性,确保去膜后软板的性能稳定,提升产品良率。选性干膜去除剂,点石安达®去膜剂,高效去除!广州低耗量去膜剂温和配方护基材
锡面防护去膜剂,脱膜过程减少锡面氧化与损伤。广州护锡去膜去膜剂全行业适配方案
不同的生产场景对去膜的要求各不相同,点石安达®选择性干膜去除剂充分考虑了这一需求。该产品具有高度的选择性,能够针对特定类型的干膜进行去除,而不会对周围的材料和结构造成影响。在精细加工和线路板脱膜等场景中,这种选性干膜去除的特性尤为重要。
例如,在复杂的线路板脱膜过程中,使用点石安达®选择性干膜去除剂可以精确去除需要去除的干膜,而不会损伤线路板上的线路和元件,**提高了脱膜的准确性和安全性。这种个性化的解决方案能够满足不同客户的特殊需求,为企业提供了更加灵活的生产选择。 广州护锡去膜去膜剂全行业适配方案
深圳市点石源水处理技术有限公司是一家有着先进的发展理念,先进的管理经验,在发展过程中不断完善自己,要求自己,不断创新,时刻准备着迎接更多挑战的活力公司,在广东省等地区的精细化学品中汇聚了大量的人脉以及**,在业界也收获了很多良好的评价,这些都源自于自身的努力和大家共同进步的结果,这些评价对我们而言是比较好的前进动力,也促使我们在以后的道路上保持奋发图强、一往无前的进取创新精神,努力把公司发展战略推向一个新高度,在全体员工共同努力之下,全力拼搏将共同深圳市点石源水处理供应和您一起携手走向更好的未来,创造更有价值的产品,我们将以更好的状态,更认真的态度,更饱满的精力去创造,去拼搏,去努力,让我们一起更好更快的成长!