企业商机
蚀刻液基本参数
  • 品牌
  • 博洋化学
  • 产品名称
  • 钼铝钼蚀刻液
  • 纯度级别
  • 超纯/高纯
  • 类别
  • 无机酸
  • 产品性状
  • 液态
蚀刻液企业商机

技术实现要素:本实用新型所解决的技术问题即在于提供一种挡液板结构与以之制备的蚀刻设备,尤其是指一种适用于湿式蚀刻机的挡液排液功能且增加其透气性以降低产品损耗的挡液板结构与以之制备的蚀刻设备,主要借由具有复数个宣泄孔的挡液板结构搭配风刀装置的硬体设计,有效使风刀装置吹出的气体得以经由宣泄孔宣泄,并利用水滴的表面张力现象防止水滴由宣泄孔落下造成基板显影不均等异常现象,确实达到保有原始挡液板的挡液效果,以及增加透气性以破除真空以减少因真空吸板导致的基板刮伤或破片风险等主要优势。本实用新型所采用的技术手段如下所述。为了达到上述的实施目的,本实用新型提出一种挡液板结构,适用于一湿式蚀刻机,挡液板结构包括有一***挡板、一与***挡板接合的第二挡板,以及一与第二挡板接合的第三挡板,其主要特征在于:第二挡板具有复数个贯穿第二挡板且错位设置的宣泄孔。如上所述的挡液板结构,其中***挡板与第二挡板呈正交设置,且第二挡板与第三挡板呈正交设置。如上所述的挡液板结构,其中***挡板、第二挡板与第三挡板围设成一凹槽的态样。如上所述的挡液板结构,其中第二挡板的长度介于10厘米(centimeter,cm)至15厘米(cm)之间。哪家公司的蚀刻液的是口碑推荐?佛山铜钛蚀刻液蚀刻液订做价格

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本发明涉及蚀刻液组合物及选择添加于该蚀刻液组合物的硅烷系偶联剂的方法。背景技术:参照图1,可以确认3dnand闪存(flashmemory)制造工序中的一部分。3dnand闪存可以通过在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*选择性去除氮化物膜的工序(wetremovalofnitride)来制造。在不损伤氧化物膜的同时将氮化物膜完全去除是这样的氮化物膜去除工序(wetremovalofnitride)的**技术之一。一般而言,氮化物膜去除工序中所使用的蚀刻液组合物利用具有防蚀能力的添加剂以获得在不损伤氧化物膜的同时*将氮化物膜完全去除的效果。但是,想要在不损伤氧化物膜的范围内将氮化物膜完全去除时,会使用防蚀能力强的添加剂,由此可能发生氮化物膜没有被完全去除的工序不良(参照图2)。此外,想要将氮化物膜完全去除时,会使用防蚀能力弱的添加剂,由此虽然氮化物膜被完全去除,但是可能发生对氧化物膜也造成损伤(damage)的工序不良(参照图3)。以往,为了在包含氧化物膜和氮化物膜的多层膜中*将氮化物膜选择性完全去除而选择具有适当水平的防蚀能力的添加剂时,按照添加剂的种类和浓度通过实验进行确认。没有这样的实验确认就选择添加剂实际上是不可能的。广东铜钛蚀刻液蚀刻液供应选择苏州博洋化学股份有限公司,安心,放心,舒心。

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其中输送装置借由至少一呈顺时针方向转动的滚轮带动基板由喷洒装置的下端部朝向风刀装置的***风刀的下端部的方向移动。如上所述的蚀刻方法,其中风刀装置分别借由一设置于该输送装置的上端部的***风刀与一设置于该输送装置的下端部的第二风刀朝向基板的上表面与下表面吹送气体。借此,本实用新型所产生的技术效果:本实用新型的挡液板结构与以之制备的蚀刻设备主要借由具有复数个宣泄孔的挡液板结构搭配风刀装置的硬体设计,有效使风刀装置吹出的气体得以经由宣泄孔宣泄,并利用水滴的表面张力现象防止水滴由宣泄孔落下造成基板蚀刻不均等异常现象,确实达到保有原始挡液板的挡液效果,以及增加透气性以破除真空以减少因真空吸板导致的基板刮伤或破片风险等主要优势。附图说明图1:传统挡液板结构的整体设置示意图。图2:本实用新型挡液板结构其一较佳实施例的整体结构示意图。图3:本实用新型挡液板结构其一较佳实施例的宣泄孔排列示意图。图4:本实用新型挡液板结构其二较佳实施例的宣泄孔排列示意图。图5:本实用新型挡液板结构其三较佳实施例的宣泄孔排列示意图。图6:本实用新型蚀刻设备其一较佳实施例的整体结构示意图。

很好的对注入量进行精确控制,提高了该装置的制备纯度。附图说明图1为本实用新型的整体示意图;图2为本实用新型的a处放大示意图;图3为本实用新型的b处放大示意图;图4为本实用新型翻折观察板沿a-a方向的截面示意图。图中:1、制备装置主体,2、高效搅拌装置,3、过滤除杂装置,4、翻折观察板,401、观察窗翻折滚轮,402、内嵌观察窗,5、装置底座,6、成品罐,7、盐酸装罐,8、硝酸装罐,9、热水流入漏斗,10、加固支架,11、防烫隔膜,12、旋转摇匀转盘,13、运转电机组,14、震荡弹簧件,15、控制面板,16、致密防腐杆,17、搅动孔,18、注入量控制容器,19、注入量观察刻度线,20、限流销,21、负压引流器,22、嵌入引流口。具体实施方式下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例**是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例,基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。请参阅图1-4,本实用新型提供一种技术方案:一种ito蚀刻液制备装置,包括制备装置主体1、高效搅拌装置2和过滤除杂装置3。金属蚀刻网会用到蚀刻液吗;

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本实用新型涉及一种铝蚀刻液生产设备。背景技术:铝蚀刻液生产设备主要包括混合罐、过滤器和储存罐,将蚀刻液中的各组份在混合罐混合均匀,由过滤器滤去杂质后投入储存罐中暂存,然后分装销售。以往,铝蚀刻液的分装由人工操作,随着自动化技术的兴起,全自动灌装线在铝蚀刻液生产企业得到广泛应用,但是,我司的铝蚀刻液生产车间面积较小,无法放置自动灌装线,所以需要对现有的生产设备进行改造,以实现铝蚀刻液的全自动灌装。技术实现要素:本实用新型提出了一种铝蚀刻液生产设备,以解决上述背景技术中提出的问题。为达前述目的,本实用新型提供的技术方案如下:铝蚀刻液生产设备,包括混合罐、过滤器、数个储存罐、数辆液压升降式拖车和地磅,所述混合罐通过液管与所述过滤器连接,所述过滤器的出液口处安装有气动升降式出液管,每个所述储存罐固定在对应的拖车顶部,所述储存罐的进液口和出液口处安装有单向液动阀,所述地磅位于所述过滤器的下方,所述地磅的顶部设置有将所述拖车固定的气动夹紧机构。在本技术方案中,载有空储存罐的拖车置于地磅上方,过滤器的出液管自动下行插入储存罐的进液口中,当地磅所测得的重量达到系统预设重量时。ITO蚀刻液的配方是什么?格林达蚀刻液销售价格

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铜蚀刻液适用于印制版铜的蚀刻,蚀刻速度快。蚀刻速度达4~5um/min。废液回收简单,用于印制板,线路板。本剂也可用于铜工艺品等的蚀刻。蚀刻后的板面平整而光亮。铜蚀刻液的反应速度快、使用温度低、溶液使用寿命长,后处理容易,对环境污染小。用于铜质单面板,双面板、首饰蚀刻,可以蚀刻出任意精美的形态,有效提高蚀刻速度,节约人工水电。常常应用于印刷线路板铜的蚀刻处理1、蚀刻速度快,效率高。使用方便。蚀刻速度可达10微米/分钟。2、可循环使用,无废液排放。1、蓝色透明液体,有气味。2、比重:1.10~1.13。3、PH值:10~11.0。1、采用浸泡的方法即可,浸泡过程中要搅动蚀刻液或移动工件。蚀刻温度为20~40℃,在通风排气处操作,操作时要盖好盖子。2、蚀刻时间可以根据蚀刻的深度确定。佛山铜钛蚀刻液蚀刻液订做价格

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