企业商机
剥离液基本参数
  • 品牌
  • 博洋化学
  • 纯度级别
  • 超纯/高纯
  • 类型
  • 醇,醚
  • 产品性状
  • 液态
剥离液企业商机

含有的胺化合物的质量分为:1%-2%。进一步技术方案中,所述的添加剂中含有醇醚化合物的质量分为:30%-50%;含有胺化合物的质量分为:35%-55%;含有缓蚀剂的质量分为:6%-12%;含有润湿剂的质量分为:1%-7%。进一步技术方案中,所述的步骤s1中剥离液废液所含的酰胺化合物以及步骤s2中添加剂所含的酰胺化合物均为n-甲基甲酰胺(nmf)、n-甲基乙酰胺、n,n-二甲基甲酰胺中的一种或者多种。进一步技术方案中,所述的步骤s1中剥离液废液所含的醇醚化合物以及步骤s2中添加剂所含的醇醚化合物均为二乙二醇丁醚(bdg)、二乙二醇甲醚、乙二醇甲醚、乙二醇乙醚中的一种或多种。进一步技术方案中,所述的步骤s1中剥离液废液所含的胺化合物以及步骤s2中添加剂所含的胺化合物为环胺与链胺。进一步技术方案中,所述的环胺为氨乙基哌嗪、羟乙基哌嗪、氨乙基吗啉中的一种或多种;所述的链胺为乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、二甘醇胺、异丙醇胺、甲基二乙醇胺、amp-95中的一种或多种。进一步技术方案中,所述的三唑类化合物,具体为苯并三氮唑(bta)、甲基苯并三氮唑(tta)中的任意一种。进一步技术方案中,所述的润湿剂为含羟基化合物,具体为为聚乙二醇、甘油中的任意一种。博洋剥离液供应厂商-提供微电子领域个性化解决方案!哪家剥离液销售厂家

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随着国内电子制造产业和光电产业的迅速发展,光刻胶剥离液等电子化学品的使用量也大为増加。特别是纵观近几年度的光电行业,风靡全球的智能手持设备、移动终端等简直成为了光电行业的风向标:与之相关的光电领域得到了飞速的发展,镜头模组、滤光片、LTPS液晶显示面板、触摸屏幕、传感器件等等。而光电行业的其他领域,虽然也有增长,但是远不及与智能手持设备相关的光电领域。工业上所使用的剥离液主要是有机胺和极性有机溶剂的组合物,通过溶胀和溶解方式剥离除去光刻胶。上述有机胺可包括单乙醇胺(MEA),二甲基乙酰胺(DMAC),N-甲基甲酰胺(NMF),N-甲基ニ乙醇胺(MDEA)等。上述极性有机溶剂可包括二乙二醇甲醚(DGME),二乙二醇单丁醚(BDG),二甲亚砜(DMS0),羟乙基哌嗪(NEP)等。由于LCD液晶屏具有体积小、质量轻、清晰度高、图像色彩好等优点,被广泛应用于工业生产中,按目前使用的液晶电视、电脑显示屏等生命周期为6-8年计算,未来随着年代的更替,LCD的生产量液将会增加,从而导致剥离液的使用量也大量增加,剥离液大量使用的同时也产生大量剥离液废液。剥离液废液中除了含有少量高分子树脂和光敏剂外。扬州中芯国际用剥离液厂家现货剥离液使用时要注意什么?

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用显微镜观察也难以看出的程度)3:有少量残渣4:基本能剥离,但一部分残渣多5:一半以上能剥离,但一部分残渣多6:基本不能剥离,但一部分剥离7:不能剥离【表2】由该结果可知,在含有溶纤剂的抗蚀剂的剥离液中使用氢氧化钾代替氢氧化钠的本发明组成,与使用氢氧化钠的比较组成相比,即使l/s狭窄,也能除去抗蚀剂。(3)剥离性能的评价方法将液温设为50℃的各剥离液使用喷涂装置向上述试验片实施剥离处理,将试验片的粘性部分的dfr以目视全部面积的90%以上被剥离的时刻作为剥离时间。另外,剥离片尺寸(长边)是采集喷涂停止后附着于设置于试验基板固定用的台上的排渣用网眼的剥离片以目视实施的。此时的喷涂装置的条件设为全锥喷嘴且流量5l/min、压力。将其结果示于表3。(4)金属的浸蚀性的评价方法利用上述评价方法实施将喷涂运行时间固定在10分钟的处理。其后,将基板的镀铜部位通过电子显微镜(日立高新技术制:s-3400n)按照以下的评价基准评价表面形状。其结果也示于表3。<金属浸蚀性的评价基准>(分数)(内容)1:没有变化2:极略微有变化(用显微镜观察也难以看出的程度)3:略有变化4:发生***变色【表3】剥离时间(sec)剥离片尺寸。

所述的链胺为乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、二甘醇胺、异丙醇胺、甲基二乙醇胺、amp-95中的任意一种或多种。技术方案中,所述的环胺为氨乙基哌嗪、羟乙基哌嗪、氨乙基吗啉中的任意一种或多种。技术方案中,所述的缓蚀剂为三唑类物质。的技术方案中,所述的缓蚀剂为苯并三氮唑、甲基苯并三氮唑中的任意一种。技术方案中,所述的润湿剂含有羟基。技术方案中,所述的润湿剂为聚乙二醇、甘油中的任意一种。经由上述的技术方案可知,与现有技术相比,本发明具有以下有益效果:本发明中加入环胺与链胺,能够渗透、断开光刻胶分子间弱结合力,能够快速、有效地溶解光刻胶,而配方中加入润湿剂,能够有效地减少接触角,增强亲水性,使得剥离液亲水性良好,能快速高效地剥离溶解光刻胶。附图说明:图1为配方一和配方二的剥离液滴落在平面时两者的接触角对比图。图2为配方一和配方二的剥离液应用是光刻胶的残留量对比图。具体实施方式现有技术中的剥离液其水置换能力较差,容易造成面板边缘光刻胶残留,本申请经过大量的试验,创造性的发现,在剥离液中加入润湿剂,能够使固体物料(高世代面板)更易被水浸湿的物质,通过降低其表面张力或界面张力,使水能展开在固体物料。ITO剥离液的配方是什么?

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本发明**技术公开了一种印刷品胶面印刷剥离复合装置,包括主支撑架、横向支架、伺服变频电机、电机减速箱、印刷品放置箱、表面印刷结构、胶面剥离结构,所述主支撑架上方设置有所述横向支架,所述横向支架上方设置有所述伺服变频电机,所述卷边辊一侧安装有胶面收卷辊,所述胶面剥离结构一侧安装有电加热箱,所述电加热箱下方安装有热风喷头,所述热风喷头下方安装有干燥度感应器,所述干燥度感应器下方安装有电气控制箱,所述电气控制箱上方安装有液晶操作面板。有益效果在于:采用黏合方式对印刷品胶面印刷进行剥离,同时能够对印刷品胶面进行回收,节约了大量材料,降低了生产成本。AprintedpeelingcompounddeviceforprintingsurfaceprintingTheinventiondisclosesaprintedpeelingstrippingcompounddevice,whichincludesamainsupportframe,alateralbracket,aservomotor,amotordecelerationbox,aprintingbox,【技术实现步骤摘要】一种印刷品胶面印刷剥离复合装置本**技术涉及印刷品加工设备领域,本**技术涉及一种印刷品胶面印刷剥离复合装置。技术介绍胶面印又称胶上印。邮票图案误印在涂有背胶的一面。在邮票印刷过程中,不慎将邮票**涂胶纸放反而造成。邮票胶面印后。什么样的剥离液可以保护底部金属?惠州哪家蚀刻液剥离液产品介绍

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本发明涉及半导体制造领域,特别是涉及一种用于包括但不限于半导体生产工艺中光刻胶去除步骤的光刻胶剥离去除方法。背景技术:光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料,是转移紫外曝光或电子束曝照图案的媒介。光刻胶的也称为光致抗蚀剂、光阻等,其作用是作为抗刻蚀层保护衬底表面。光刻胶广泛应用于集成电路(ic)、封装(packaging)、微机电系统(mems)、光电子器件光子器件(optoelectronics/photonics)、平板显示其(led、lcd、oled)和太阳能光伏(solarpv)等领域。在半导体制造领域,离子注入层光刻胶(参考图2)在经过高剂量或大分子量的源种注入后(参考图3),会在光刻胶的外层形成一层硬壳(参考图4)本发明命名为主要光刻胶层。现有的离子注入层光刻胶在经过氧气灰化干法剥离时,由于等离子氧与光刻胶反应速率很高,会有一部分等离子氧先穿透主要光刻胶层到达第二光刻胶层,在与第二光刻胶层反应后在内部产生大量气体,第二层光刻胶膨胀(参考图5),主要光刻胶层终因承受不住内层巨大的气压而爆裂,爆裂的光刻胶有一定的概率掉落在临近的光刻胶上(参考图6),导致此交叠的光刻胶不能法剥离干净。在经过后续批作业的湿法剥离后会产生残余物。哪家剥离液销售厂家

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