名称:含有全氟丁基醚的组合物的制作方法含有全氟丁基醚的组合物本发明涉及共沸或共沸型的全氟丁基醚混合物或组合物。更具体地说,本发明的一个主题是包含至少一种九氟丁基烷基醚和可生物降解化合物的组合物。地球大气阻挡了来自于地球的IR发射,这是导致温室效应和有利于生命的适度温度的原因。在大气中,主要是二氧化碳0)2导致这种自然界的温室效应。人类排放的某些气体(包括来自化石燃料的co2)增强了该效应,导致全球变暖及其对于气候的影响暴风雨、洪水、浮冰表面积的变化和冰)I丨消退。京都议定书(1997)的目标是相对于1990年(基准年),在20082012年的承诺期间内,使6种温室气体(C02、CH4、N20、HFC、PFC、SF6)的全球排放减少5%。给定产物的温室效应通过其GWP(全球变暖潜势)量化,所述GWP不仅考虑了分子对辐射吸收的固有作用而且还考虑了分子在大气中的寿命(或者等同于相同的特征,如在给定时期(通常为1个世纪)内的该分子的浓度)。所述GWP相对于作为参比气体的C02全A屮圣口田O氟化溶剂长期用于高技术工业(例如电子、航空、精密机械或医药部门)。在这些领域中,目标总是相同的,即获得非常高清洁度的表面。苏州博洋化学股份有限公司专业生产BOE蚀刻液。什么是BOE蚀刻液图片
odecualquierelementoconeldepóóósitosdeaceroyaceroinoxidabledesimpleparediránprovistosdeunsistemadeproteccióncatódicasalvoquesedemuestre,medianteunestudiodeagresividaddelterreno,óncatódicaesgarantizarunpotencialentreeldepósitoyelsueloquemedidorespectoalelectrododereferenciacobre-sulfatodecobre,seaigualoinferiora-0,áde-0,95Vcomomáximocuandohayariesgodecorrosióíasférreasuotrascausas,deberánadoptarsemedidasespecialesparalaproteccióncatódica,segúósitosensualojamientosesometeránauncontrol,paracomprobarquenohansufridodañosduranteeltransporteydescarga,tantoenlachapacomoenlapinturadeproteccióánsometidosaunapruebadeestanqueidad,hidráulicaoneumáticaaunapresiónmanométricasuperiora20KPa.(0,2kilogramos/centímetrocuadrado)ynosuperiora34kPa.(0。什么是BOE蚀刻液图片BOE蚀刻液适用于什么半导体什么制程;
该实施例中所含成分及各成分称取的质量显示于表1。添加剂为丙二醇丁醚、脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p,添加量分别为总质量的%、%。实施例2本发明的实施例按蚀刻液总质量为400g进行配制,先称取浓度为85%的磷酸,然后称取添加剂加入磷酸中,该实施例中所含成分及各成分称取的质量显示于表1。添加剂为三乙二醇乙醚、月桂酰氨乙基硫酸钠,添加量分别为总质量的%、%。实施例3本发明的实施例按蚀刻液总质量为400g进行配制,先称取浓度为85%的磷酸,然后称取添加剂加入磷酸中,该实施例中所含成分及各成分称取的质量显示于表1。添加剂为三甘醇单丁醚、月桂酰氨乙基硫酸钠,添加量分别为总质量的%、%。实施例4本发明的实施例按蚀刻液总质量为400g进行配制,先称取浓度为85%的磷酸,然后称取添加剂加入磷酸中,该实施例中所含成分及各成分称取的质量显示于表1。添加剂为二乙二醇单甲醚、脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p,添加量分别为总质量的%、%。实施例5本发明的实施例按蚀刻液总质量为400g进行配制,先称取浓度为85%的磷酸,然后称取添加剂加入磷酸中,该实施例中所含成分及各成分称取的质量显示于表1。
所述的磷酸浓度为82-87%。进一步地,本发明涉及上述蚀刻液,醇醚类的含量为%。进一步地,本发明涉及上述蚀刻液,表面活性剂的含量为%。进一步地,本发明涉及上述蚀刻液,所述的醇醚类为选自二乙二醇单甲醚、丙二醇丁醚、二丙二醇甲醚、二乙二醇丁醚、三乙二醇乙醚、三丙二醇单甲醚、三甘醇单丁醚等中的至少一种;表面活性剂为选自脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p、壬基酚聚氧乙烯醚np-10、聚乙二醇硬脂酸酯egms、烷基酚聚氧乙烯醚硫酸钠、月桂酰氨乙基硫酸钠、醇醚羧酸盐等中的至少一种。进一步地,在使用本发明的蚀刻液进行氮化硅层蚀刻时,蚀刻温度为152-165℃,蚀刻时间为5-60min。通过在磷酸中添加醇醚类和表面活性剂,改善了磷酸的浸润性和表面张力,明显提高了蚀刻液对氮化硅层的润湿和蚀刻均匀性。为了便于验证氮化硅薄膜层的蚀刻均匀性,本发明使用淀积了氮化硅薄膜的晶圆样片(初始厚度约为)。蚀刻液配制完成后,先使用表面张力仪检测该蚀刻液的表面张力;然后将氮化硅晶圆片切割成1cm*3cm的小样片,采用超纯水清洗和氮气吹干后,使用接触角测量仪检测蚀刻液对氮化硅层的接触角大小。在蚀刻前,使用椭圆偏振光谱仪对氮化硅样片取不同位置共6个点进行厚度的测量。博洋 BOE 蚀刻液,为微电子行业的发展提供独具特色的个性化解决方案。
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