企业商机
BOE蚀刻液基本参数
  • 品牌
  • 博洋化学
  • 产品名称
  • BOE蚀刻液
  • 纯度级别
  • 电子纯MOS
  • 类别
  • 无机盐
  • 产品性状
  • 液态
BOE蚀刻液企业商机

    gradodelafuentedeescapeeinfluenciadelaventilación)laextensióndecadazonapeligrosaobedeceráalossiguientescriteriosyconsideraciones:)Isletasdereposamientoodistribucióóndeservicioquepuedenconsiderarsecomodeficientementeventiladosdebidoalaenvolventemetáácomozona1porqueenélunaatmósferadegasexplosivaseprevépuedaestarpresentedeunaformaperiódicauocasionalmenteduranteelfuncionamientonormalyademásnotieneunabuenaventilacióósferaexplosivanoestápresenteenfuncionamientonormalysiloestáserádeformapocofrecuenteydecortaduración,oaundándoselascondicionesanteriores,elgradodeventilaciónesóóndecadazonaanteriormenteindicadapuedelimitarsemediantelautilizaciónde«barrerasdevapor»queimpidanelpasodegases,vaporesolíóndelossurtidoresydeladisposicióndeloscabezaleselectrónicoslasbarrerasseclasificanendostipos:1.ºBarrerasdevaportipo1.。苏州博洋专业生产,BOE蚀刻液生产。浙江什么是BOE蚀刻液厂家现货

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    所述的磷酸浓度为82-87%。进一步地,本发明涉及上述蚀刻液,醇醚类的含量为%。进一步地,本发明涉及上述蚀刻液,表面活性剂的含量为%。进一步地,本发明涉及上述蚀刻液,所述的醇醚类为选自二乙二醇单甲醚、丙二醇丁醚、二丙二醇甲醚、二乙二醇丁醚、三乙二醇乙醚、三丙二醇单甲醚、三甘醇单丁醚等中的至少一种;表面活性剂为选自脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p、壬基酚聚氧乙烯醚np-10、聚乙二醇硬脂酸酯egms、烷基酚聚氧乙烯醚硫酸钠、月桂酰氨乙基硫酸钠、醇醚羧酸盐等中的至少一种。进一步地,在使用本发明的蚀刻液进行氮化硅层蚀刻时,蚀刻温度为152-165℃,蚀刻时间为5-60min。通过在磷酸中添加醇醚类和表面活性剂,改善了磷酸的浸润性和表面张力,明显提高了蚀刻液对氮化硅层的润湿和蚀刻均匀性。为了便于验证氮化硅薄膜层的蚀刻均匀性,本发明使用淀积了氮化硅薄膜的晶圆样片(初始厚度约为)。蚀刻液配制完成后,先使用表面张力仪检测该蚀刻液的表面张力;然后将氮化硅晶圆片切割成1cm*3cm的小样片,采用超纯水清洗和氮气吹干后,使用接触角测量仪检测蚀刻液对氮化硅层的接触角大小。在蚀刻前,使用椭圆偏振光谱仪对氮化硅样片取不同位置共6个点进行厚度的测量。电子级BOE蚀刻液销售公司BOE蚀刻液就来苏州博洋化学股份有限公司。

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    TG242432-013LBT022QCME101BT022QVME102BT022QVME602BT022QCME103BT022QCME104BTL221722-276LBTG221722-003L-1BT022QCMQ101BT022QVMG003BT021LCME101BT020QVME101BT018QQME101BTL181216-296LBV015Z1E-NB0BV015Z2E-NB0BT015SQMM001240RGB204深圳市精通科技有限公司ShenzhenProficienttechnologylimited联系电话:Contactphone:公司网址:Website:公司邮箱:jtkjlcm@Email:jtkjlcm@工厂地址:中国广东省河源市龙川县龙母镇168号Factoryaddress:longmuzhen168th,LongchuaninHeyuancity,GuangdongProvince,China联系人;胡雄兵Contactperson:HuXiongbing联系手机:Contactphone:5039联系QQ:ContactQQ:联系邮箱:@Contactemail:@公司地址:中国广东省深圳市龙岗区爱联陂头背村5巷5号Address:,LonggangDistrict,ShenzhenCity,GuangdongProvince,ChinalovethePo5thbeiCun5numbersCSTNTFTOLEDLCDLCM显示屏模组制造商CSTNTFTOLEDLCDmoduleLCMdisplaymanufacturer我公司专业研发生产销售维修中小尺寸FT液晶显示屏模组产品已广泛应用于手机、汽车、工业、医疗、消费类产品等领域。

    然后将装有蚀刻液的石英烧瓶放入加热套中加热,待加热到确定温度后,放入氮化硅样片进行蚀刻;蚀刻完后,取出样片采用热超纯水清洗和氮气吹干后,使用椭圆偏振光谱仪对蚀刻前所取位置的6个点的厚度进行测量,计算蚀刻前后6个取点的厚度差值,对比6个点之间的厚度差值的差异。与现有的使用磷酸作为蚀刻液相比,本发明的有益效果是:醇醚类和表面活性剂的添加能明显改善磷酸溶液的浸润性和降低磷酸溶液的表面张力,有效提高了蚀刻液对氮化硅层的润湿性和蚀刻均匀性。具体实施方式下面结合具体实施例,进一步阐述本发明,对本发明做进一步详细的说明,但不限于这些实施例。本发明的蚀刻液配制时选择的磷酸浓度为85%,蚀刻温度为160℃,蚀刻时间为10min。先对所配制蚀刻液的表面张力进行检测,然后将氮化硅样片使用超纯水清洗和氮气吹干后,进行接触角的测量;蚀刻前使用超纯水清洗和氮气吹干氮化硅样片后,在氮化硅样片上取6个不同位置的点对其厚度进行测量;蚀刻完成后使用热超纯水清洗和氮气吹干氮化硅样片后,取与蚀刻前相同位置的6个点进行厚度测量。实施例1本发明的实施例按蚀刻液总质量为400g进行配制,先称取浓度为85%的磷酸,然后称取添加剂加入磷酸中。博洋化学BOE蚀刻液的专业供应商。

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    deacuerdoconlascantidadesindicadasenelapartadodelanormaUNE20-322.)ípicasaconsiderarson:1.ºIsletasdedistribució.º.ºLocalesoedificiosdeservicio,conalmacenajedelubricantes.)Influenciadelaventilacióónafectarádeformadirectaaltipoy/oextensióáíndicedeventilación(renovaciones/horas)elevadodetalformaqueelgradodepeligrosidaddelemplazamientopuedellegaraser«nopeligroso».Portanto,aunenelcasodeunafuentedeescapedegradocontinuolascondicionesdelaventilaciónpuedencrearmásdeuntipodezonaalrededordelafuentedeescapeounazonadetipoyextensióndiferente.)Determinacióndelaextensió(cantidadmínimadesustanciainflamable。苏州博洋化学股份有限公司,专业的BOE蚀刻液生产商。湖南应用BOE蚀刻液商家

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    本发明涉及一种提高氮化硅蚀刻均匀性的酸性蚀刻液,通过在磷酸中添加醇醚类和表面活性剂,来改善磷酸的浸润性和表面张力,使之均匀蚀刻氮化硅。背景技术:氮化硅是一种具有很高的化学稳定性的绝缘材料,氢氟酸和热磷酸能对氮化硅进行缓慢地腐蚀。在半导体制造工艺中,一般是采用热磷酸对氮化硅进行蚀刻,一直到了90nm的制程也是采用热磷酸来蚀刻氮化硅。但随着半导体制程的飞速发展,器件的特征尺寸越来越小,集成度越来越高,对制造工艺中的各工艺节点要求也越来越高,如蚀刻工艺中对蚀刻后晶圆表面的均匀性、蚀刻残留、下层薄膜的选择性等都有要求。在使用热磷酸对氮化硅进行蚀刻时,晶圆表面会出现不均匀的现象,体现于在蚀刻前后进行相同位置取点的厚度测量时,检测点之间蚀刻前后的厚度差值存在明显差异。为了解决氮化硅蚀刻不均匀的问题,通过在磷酸中添加醇醚类和表面活性剂可以实现氮化硅层的均匀蚀刻。技术实现要素:本发明所要解决的技术问题是提供一种能均匀蚀刻氮化硅层的蚀刻液。本发明涉及一种提高氮化硅蚀刻均匀性的酸性蚀刻液,所述蚀刻液的组成包括:占蚀刻液总重量≥88%的磷酸、%的醇醚类、%的表面活性剂。进一步地,本发明涉及上述蚀刻液。浙江什么是BOE蚀刻液厂家现货

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