用于实现将所述玻璃加工治具从所述转换区经所述冲洗区向所述蚀刻区的减薄前移动,以及从所述蚀刻区经所述冲洗区向所述转换区的减薄后移动;所述冲洗区设置于所述转换区和所述蚀刻区之间。较佳的,所述蚀刻区包括腔室、主厚度测量仪、喷淋组件和控制器;所述主厚度测量仪、所述喷淋组件设置于所述腔室上,所述喷淋组件在所述腔室中对设置于所述玻璃加工治具上的玻璃施加减薄处理,所述主厚度测量仪实时测量在所述腔室内经历减薄处理的玻璃厚度;所述控制器与所述喷淋组件、所述主厚度测量仪、所述传输组件连接。较佳的,所述喷淋组件包括设置于所述腔室顶部的喷淋头、设置于所述腔室底部的收集槽、以及与所述喷淋头、所述收集槽均连通的外部喷淋液管路,通过所述喷淋头对所述玻璃加工治具上的玻璃喷淋喷淋液从而实现玻璃的减薄处理,所述收集槽收集减薄处理后的喷淋液并传输至所述喷淋液管路从所述腔室内排出。较佳的,所述主厚度测量仪包括用于发射激光束的发射器、用于接收被玻璃反射光束的接收器以及用于分析所述接收器中接收光束并且计算玻璃厚度的分析器。较佳的,所述主厚度测量仪还包括空气喷射器,用于将空气喷射到玻璃表面,将被检测部位暴露于所述发射器对应位置。减薄清洗剂,专业解决涂层过厚难题,提高产品良率。扬州哪里减薄用清洗剂技术指标
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本发明提供如下技术方案:一种抛光减薄装置,包括:托盘,用于固定待加工部件,所述待加工部件包括inp基晶圆;喷头,用于向所述待加工部件的待加工表面喷涂抛光液,以对所述待加工表面进行抛光;磁转子,放置在所述待加工部件的待加工表面上,用于通过旋转对所述待加工表面进行机械研磨,对所述待加工表面进行减薄。可选地,还包括控制部件;所述控制部件与所述磁转子和所述喷头相连,用于控制所述喷头和所述磁转子交替工作,以对所述待加工表面交替进行抛光和减薄。可选地,所述磁转子包括截面为半圆形的柱状磁性结构和位于所述磁性结构底部的研磨层,以通过所述研磨层对所述待加工表面进行机械研磨。可选地,所述研磨层为金属氧化物层,所述金属氧化物层包括三氧化二铝层。可选地,还包括:热板,设置于所述托盘底部,用于对所述托盘进行加热,以使所述待加工部件与所述托盘键合固定。可选地,所述待加工部件与所述托盘通过光刻胶键合固定。一种抛光减薄方法,包括:将待加工部件固定在托盘上,所述待加工部件包括inp基晶圆;通过喷头向所述待加工部件的待加工表面喷涂抛光液,来对所述待加工表面进行抛光;通过磁转子旋转对所述待加工表面进行机械研磨。
所述控制器控制所述玻璃加工治具4在所述蚀刻区3内作往复移动,所述主厚度测量仪32测量玻璃厚度并且将关于测得厚度的信息实时发送到所述控制器;当测得玻璃厚度达到预设目标厚度时,所述控制器停止在所述蚀刻区3中喷射喷淋液的减薄处理,并且控制所述玻璃加工治具4向所述冲洗区2移动。一般的,在所述腔室31内,减薄处理的具体工艺参数为:所述玻璃加工治具4的往复运动中单程单向时间设置为~4s,来回往复一次时间设置为3s~8s,往复移动幅度设置约为180mm左右;所述喷淋系统控制的喷淋液流量设置为1500lpm~2400lpm,在所述腔室31内的酸蚀温度一般设置为20℃~40℃;在上述参数下,玻璃的酸蚀速率一般在μm/min~μm/min,可有效实现对玻璃的整体减薄处理。s2,完成减薄处理的所述玻璃加工治具4在所述冲洗区2内经减薄后初清洗后待机,所述控制器进行次减薄厚度确认操作;具体的,通过设置于所述冲洗区2内的所述辅助厚度测量仪,进行检测厚度比较,从而实现所述减薄厚度确认操作,当所述减薄厚度未达到目标厚度时,所述控制器可控制所述玻璃加工治具4再次回撤至所述腔室31内进行再次减薄处理。s3,所述玻璃加工治具4移动至所述第三冲洗区2进行减薄后终清洗。好的减薄用清洗剂公司的标准是什么。
产品名称:LCD清洗剂光学镜片清洗剂芯片模块清洗剂产品链接:/zhizhangtianjiaji-qingxiji/手机版链接:,包括各种电子元器件、CCD和CMOS图像感应芯片及模块、半导体生产装置零件和腔体、医疗设备零部件、LCD/OLED显示器、光学件、镜片、精密加工零部件等。由于HFEs清洗剂与HCFC-141b性能接近,使用氢氟醚清洗剂进行替代的一个好处是可直接使用原有设备和工艺,无须增加太多的投资,对生产的扰动也较小。但目前我国市场上的HFEs清洗剂几乎均为进口,价格相对较高。目前主要用于高附加值零件的清洗和一些特殊要求的清洗场合。可从以下两个方面着手,提高HFEs清洗剂使用的经济性。一是通过完善清洗工艺加强对HFEs清洗剂的蒸馏回收和再生,提高重复利用率;二是利用与其他溶剂的良好相溶性,添加一些价廉易得、清洗性能强的溶剂进行复配,或与其他一些相对便宜的清洗剂,如碳氢溶剂、醇醚类溶剂等组合实现清洗操作,这样既可有效降低HFEs的消耗,减少运行成本,也可提高清洗效果。目前我司提供清LCD清洗剂光学镜片清洗剂芯片模块清洗剂型号有以下:ENASOLV2004清洗剂ENASOLV365az精密电子清洗剂ENASOLV氢氟醚系列清洗剂产品具体数据资料请联系下方人员。减薄用清洗剂,专为去除多余涂层设计,不留痕迹。。扬州国产减薄用清洗剂溶剂
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并控制磁转子12和喷头11每间隔20s旋转10s,也就是说,控制磁转子旋转10s,控制磁转子停止旋转后,控制喷头喷涂抛光液10s,停止喷涂抛光液10s后,控制磁转子旋转10s,以此类推。本发明实施例中,控制部件在脉冲工作模式下,实现减薄和抛光两种工艺交替作用,使得减薄和抛光一体化完成,整个过程稳定,速度快,控制性好,重复度高,无粉尘污染,衬底减薄终厚度达到20μm,抛光面ra<2nm。还需要说明的是,本发明实施例中,在减薄的过程中,可以不断更换磁转子12,如磁转子12工作1小时后,将磁转子12更换为新的磁转子,以使磁转子与待加工表面贴合紧密,避免了传统减薄工艺中由于转子形变误差造成的加工精度失真。此外,本发明实施例中,在完成抛光和减薄后,可以采用直链烷基苯磺酸盐溶剂对待加工部件20进行清洗,用di水冲洗干净,40℃的氮气吹干。之后,将清洗后的待加工部件20和托盘10侵入60℃的nmp(n甲基吡咯烷酮)30min,使得待加工部件20和托盘10自动分离,取出待加工部件20后清洗干净即可。本发明实施例还提供了一种抛光减薄方法,如图5所示,包括:s101:将待加工部件固定在托盘上,待加工部件包括inp基晶圆;可选地。扬州哪里减薄用清洗剂技术指标