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    可有效稳定所述固定板423的竖直放置位置。同时，值得指出的时，所述竖直平板421上所述侧支撑件44的固定方式也可采用板加槽的方式，具体的，所述竖直平板421上设置有若干竖槽，所述竖槽单侧竖直有若干定槽，对应所述定槽设置有带有固定块的安装板，所述安装板对应所述竖槽的侧边设置有至少2个所述固定块，所述安装板远离所述竖槽的侧边设置有所述侧支撑件44，通过将所述固定块分别设置于所述定槽内，从而实现所述侧支撑件44在所述竖直平板421上的固定。通过所述竖直平板421和所述侧板422上的所述侧支撑件44的设置，从而实现对所述玻璃加工治具4上玻璃的侧边位置固定，同时，通过所述侧板422上所述调节槽的设置，可实现所述侧板422上所述侧支撑件44的位置调节，从而使所述玻璃加工治具4适用于不同尺寸的玻璃，并可根据具体玻璃尺寸同时放置不同尺寸的玻璃进行减薄处理。实施例五一般的，对于实施例四中的所述玻璃加工治具4结构，可通过调节所述底支撑件43位置使所述底支撑件43适用于不同尺寸的玻璃。如图7、图8所示，图7为所述底支撑件的结构正视图；图8为所述底支撑件的结构侧视图；所述底支撑件43包括支撑条431、第二支撑条432、连接部433和接触部434。苏州性价比高的减薄用清洗剂销售厂如何挑选一款适合自己的减薄用清洗剂？

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    图2为所述蚀刻区的结构示意图；图3为所述玻璃加工治具的种结构正视图；图4为所述玻璃加工治具的第二种结构正视图；图5为图3中的局部放大图；图6为所述玻璃加工治具的结构俯视图；图7为所述底支撑件的结构正视图；图8为所述底支撑件的结构侧视图。图中数字表示：1-转换区；2-冲洗区；3-蚀刻区；4-玻璃加工治具；31-腔室；32-主厚度测量仪；33-喷淋组件；41-底座；42-支撑架；43-底支撑件；44-侧支撑件；421-竖直平板；422-侧板；423-固定板；424-水平槽；425-竖直槽；426-固定槽；427-固定卡块；428-定位槽；429-定位孔；431-支撑条；432-第二支撑条；433-连接部；434-接触部；435-磁性件；436-第二磁性件；437-限位孔；438-限位块；439-第二限位块。具体实施方式以下结合附图，对本发明上述的和另外的技术特征和优点作更详细的说明。实施例一如图1所示，图1为所述玻璃减薄设备的结构视图；本发明中所述玻璃减薄设备包括转换区1、冲洗区2和蚀刻区3，所述冲洗区2设置于所述转换区1和所述蚀刻区3之间，竖直容纳在玻璃加工治具4中的多个玻璃通过所述转换区1被加载到所述冲洗区2中，在所述冲洗区2中进行减薄前清洁并且在所述蚀刻区3中经历减薄处理。苏州质量好的减薄用清洗剂的公司。

    本发明涉及半导体制造技术领域，更具体地说，涉及一种抛光减薄装置和抛光减薄方法。背景技术：采用iii-v族化合物制作的半导体器件和超高速数字/数模混合电路等凭借其优良的频率特性，已经成为通讯、雷达、制导、空间防御、高速智能化武器及电子对抗等现代化装备的部件之一。在众多的iii-v族化合物中，inp(磷化铟)化合物具有独特的优势，这主要得益于其优良的材料特性，例如，inp和ingaas(铟镓砷)之间的晶格失配很小，以及电子饱和速率很高等，所以不论是hemt(highelectronmobilitytransistor，高电子迁移率晶体管)结构还是hbt(heterojunctionbipolartransistor，异质结双极晶体管)结构，都具有非常优异的高频、大功率性能。但是，inp材料的物理性能却很差，非常易碎，很小的碰撞或振动都会导致晶圆碎裂而前功尽弃，因此，inp材料的制造加工面临着很多工艺上的难题。尤其是在超高频率、大功率的inp基rfic(射频集成电路)的制造工艺中，如何在对inp基晶圆进行减薄抛光时，减小或避免inp基晶圆的损伤是本领域技术人员亟待解决的问题之一。技术实现要素：有鉴于此，本发明提供了一种抛光减薄装置和抛光减薄方法，以减小或避免inp基晶圆的减薄抛光损伤。为实现上述目的。苏州哪家公司的减薄用清洗剂的口碑比较好？深圳哪家公司减薄用清洗剂销售公司

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