企业商机
减薄用清洗剂基本参数
  • 品牌
  • 博洋化学
  • 纯度级别
  • 超纯/高纯
  • 类别
  • 无机碱
  • 产品性状
  • 液态
减薄用清洗剂企业商机

    本发明提供如下技术方案:一种抛光减薄装置,包括:托盘,用于固定待加工部件,所述待加工部件包括inp基晶圆;喷头,用于向所述待加工部件的待加工表面喷涂抛光液,以对所述待加工表面进行抛光;磁转子,放置在所述待加工部件的待加工表面上,用于通过旋转对所述待加工表面进行机械研磨,对所述待加工表面进行减薄。可选地,还包括控制部件;所述控制部件与所述磁转子和所述喷头相连,用于控制所述喷头和所述磁转子交替工作,以对所述待加工表面交替进行抛光和减薄。可选地,所述磁转子包括截面为半圆形的柱状磁性结构和位于所述磁性结构底部的研磨层,以通过所述研磨层对所述待加工表面进行机械研磨。可选地,所述研磨层为金属氧化物层,所述金属氧化物层包括三氧化二铝层。可选地,还包括:热板,设置于所述托盘底部,用于对所述托盘进行加热,以使所述待加工部件与所述托盘键合固定。可选地,所述待加工部件与所述托盘通过光刻胶键合固定。一种抛光减薄方法,包括:将待加工部件固定在托盘上,所述待加工部件包括inp基晶圆;通过喷头向所述待加工部件的待加工表面喷涂抛光液,来对所述待加工表面进行抛光;通过磁转子旋转对所述待加工表面进行机械研磨。减薄清洗剂,让您的产品更加精致,提升市场竞争力。安徽显示面板用减薄用清洗剂订做价格

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    实现玻璃与喷淋液充分均匀接触的同时,控制玻璃的摆动幅度,提高玻璃在减薄过程中的安全性。实施例六所述主厚度测量仪32与所述蚀刻区3的内壁相邻,并且具有滑动结构以移动到竖直容纳在所述玻璃加工治具4内的玻璃之中的靠外玻璃附近,从而便于对玻璃厚度进行检测;具体的,在所述控制器的控制下,所述主厚度测量仪32通过向玻璃发射激光束来实时测量玻璃厚度并且在玻璃正经历滑动处理的同时将关于测得厚度的信息发送到所述控制器;所述控制器实时将预设的目标厚度与从所述主厚度测量仪32接收的测得玻璃厚度进行比较。如果确定从所述主厚度测量仪32接收的测得玻璃厚度达到目标厚度,则所述控制器停止减薄处理等操作,并且将所述玻璃加工治具4向所述冲洗区2移动。较佳的,所述主厚度测量仪32可包括:发射器,其用于发射激光束;接收器,其用于接收被玻璃反射的光束;以及分析器,其用于分析接收器中接收的光束并且计算玻璃厚度。所述主厚度测量仪32还可包括空气喷射器,用于将空气喷射到玻璃的将被暴露于从发射器发射的激光束的那部分。在通过发射器发射激光束之前,所述主厚度测量仪32控制所述空气喷射器。

    本发明涉及半导体制造技术领域,更具体地说,涉及一种抛光减薄装置和抛光减薄方法。背景技术:采用iii-v族化合物制作的半导体器件和超高速数字/数模混合电路等凭借其优良的频率特性,已经成为通讯、雷达、制导、空间防御、高速智能化武器及电子对抗等现代化装备的部件之一。在众多的iii-v族化合物中,inp(磷化铟)化合物具有独特的优势,这主要得益于其优良的材料特性,例如,inp和ingaas(铟镓砷)之间的晶格失配很小,以及电子饱和速率很高等,所以不论是hemt(highelectronmobilitytransistor,高电子迁移率晶体管)结构还是hbt(heterojunctionbipolartransistor,异质结双极晶体管)结构,都具有非常优异的高频、大功率性能。但是,inp材料的物理性能却很差,非常易碎,很小的碰撞或振动都会导致晶圆碎裂而前功尽弃,因此,inp材料的制造加工面临着很多工艺上的难题。尤其是在超高频率、大功率的inp基rfic(射频集成电路)的制造工艺中,如何在对inp基晶圆进行减薄抛光时,减小或避免inp基晶圆的损伤是本领域技术人员亟待解决的问题之一。技术实现要素:有鉴于此,本发明提供了一种抛光减薄装置和抛光减薄方法,以减小或避免inp基晶圆的减薄抛光损伤。为实现上述目的。选择高效减薄用清洗剂,为您的生产线注入新活力。

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    将待加工部件固定在托盘上包括:采用光刻胶将待加工部件固定在托盘上。具体地,将待加工部件背面喷涂厚度约为2μm的光刻胶,如az4620光刻胶,然后在托盘表面喷涂厚度约为3μm的光刻胶,如az4620光刻胶,之后,将托盘光刻胶面向上放于温度为90℃的热板上,将待加工部件光刻胶面和托盘光刻胶面贴合,在2×10-2mabr真空下,施加1bar压强于待加工部件上进行键合,键合时间20min。s102:通过喷头向待加工部件的待加工表面喷涂抛光液,来对待加工表面进行抛光;s103:通过磁转子旋转对待加工表面进行机械研磨,来对待加工表面进行减薄。可选地,本发明实施例中,s102和s103可以交替进行,也就是说,控制磁转子旋转一段时间后,控制磁转子停止旋转,并控制喷头喷涂抛光液,停止喷涂抛光液后,再次控制磁转子旋转,以此类推。本发明实施例中,通过磁转子和喷头交替工作,实现了减薄和抛光两种工艺交替作用,使得减薄和抛光一体化完成,整个过程稳定,速度快,控制性好,重复度高,无粉尘污染,衬底减薄终厚度达到20μm,抛光面ra<2nm。由于减薄过程中待加工部件20如inp基晶圆本身不旋转,因此,可以降低抛光减薄过程中对待加工部件20如inp基晶圆的挤压应力。苏州博洋化学股份有限公司清洗剂;杭州性价比高的减薄用清洗剂厂家现货

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    所述支撑条431和所述第二支撑条432一一平行对应设置,所述连接部433活动连接所述支撑条431和所述第二支撑条432,所述支撑条431固定设置于所述底座41上,所述接触部434均匀设置在所述第二支撑条432上。同时可通过设置所述支撑条431的高度或所述支撑条431的固定位置从而调节所述底支撑件43的高度,如通过将上述支撑条431的两端固定在两所述竖直平板421上。较佳的,所述支撑条431和所述第二支撑条432上设置有磁性组,所述支撑条431和所述第二支撑条432在所述磁性组提供的磁性斥力作用下具有调节间隙。所述磁性组包括磁性件435和第二磁性件436,所述磁性件435和所述第二磁性件436分别设置于所述支撑条431和所述第二支撑条432上,且所述磁性件435和所述第二磁性件436之间具有磁性斥力,从而使所述第二支撑条432悬浮于所述支撑条431的上方。所述连接部433设置有限位孔437,所述限位孔437设置为腰型孔,所述支撑条431的水平两侧均设置有若干限位块438,所述第二支撑条432的水平两侧均设置有若干第二限位块439,所述限位块438和所述第二限位块439一一对应设置,对应设置的所述限位块438和所述第二限位块439均设置在同一所述连接部433的所述限位孔437内。安徽显示面板用减薄用清洗剂订做价格

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