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    本发明提供如下技术方案：一种抛光减薄装置，包括：托盘，用于固定待加工部件，所述待加工部件包括inp基晶圆；喷头，用于向所述待加工部件的待加工表面喷涂抛光液，以对所述待加工表面进行抛光；磁转子，放置在所述待加工部件的待加工表面上，用于通过旋转对所述待加工表面进行机械研磨，对所述待加工表面进行减薄。可选地，还包括控制部件；所述控制部件与所述磁转子和所述喷头相连，用于控制所述喷头和所述磁转子交替工作，以对所述待加工表面交替进行抛光和减薄。可选地，所述磁转子包括截面为半圆形的柱状磁性结构和位于所述磁性结构底部的研磨层，以通过所述研磨层对所述待加工表面进行机械研磨。可选地，所述研磨层为金属氧化物层，所述金属氧化物层包括三氧化二铝层。可选地，还包括：热板，设置于所述托盘底部，用于对所述托盘进行加热，以使所述待加工部件与所述托盘键合固定。可选地，所述待加工部件与所述托盘通过光刻胶键合固定。一种抛光减薄方法，包括：将待加工部件固定在托盘上，所述待加工部件包括inp基晶圆；通过喷头向所述待加工部件的待加工表面喷涂抛光液，来对所述待加工表面进行抛光；通过磁转子旋转对所述待加工表面进行机械研磨。南通玻璃用减薄用清洗剂配方技术如何正确使用减薄用清洗剂的。

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    并控制磁转子12和喷头11每间隔20s旋转10s，也就是说，控制磁转子旋转10s，控制磁转子停止旋转后，控制喷头喷涂抛光液10s，停止喷涂抛光液10s后，控制磁转子旋转10s，以此类推。本发明实施例中，控制部件在脉冲工作模式下，实现减薄和抛光两种工艺交替作用，使得减薄和抛光一体化完成，整个过程稳定，速度快，控制性好，重复度高，无粉尘污染，衬底减薄终厚度达到20μm，抛光面ra＜2nm。还需要说明的是，本发明实施例中，在减薄的过程中，可以不断更换磁转子12，如磁转子12工作1小时后，将磁转子12更换为新的磁转子，以使磁转子与待加工表面贴合紧密，避免了传统减薄工艺中由于转子形变误差造成的加工精度失真。此外，本发明实施例中，在完成抛光和减薄后，可以采用直链烷基苯磺酸盐溶剂对待加工部件20进行清洗，用di水冲洗干净，40℃的氮气吹干。之后，将清洗后的待加工部件20和托盘10侵入60℃的nmp(n甲基吡咯烷酮)30min，使得待加工部件20和托盘10自动分离，取出待加工部件20后清洗干净即可。本发明实施例还提供了一种抛光减薄方法，如图5所示，包括：s101：将待加工部件固定在托盘上，待加工部件包括inp基晶圆；可选地。质量好的减薄用清洗剂的找谁好？南通显示面板用减薄用清洗剂批量定制

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    图1为本发明实施例提供的一种抛光减薄装置的结构示意图；图2为本发明实施例提供的一种托盘和待加工部件的键合固定方式示意图；图3为本发明实施例提供的一种磁转子的结构示意图；图4为本发明实施例提供一种磁转子的旋转方式的示意图；图5为本发明实施例提供的一种抛光减薄方法的流程示意图。具体实施方式以上是本发明的思想，为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。本发明实施例提供了一种抛光减薄装置，用于对inp基晶圆等部件进行抛光减薄，如图1所示，包括托盘10、喷头11和磁转子12，当然，本发明实施例中的抛光减薄装置还包括反应室13等，托盘10、喷头11和磁转子12等在反应室13内进行抛光和减薄反应。其中，托盘10，可选为石英托盘，用于固定待加工部件20，待加工部件20包括inp基晶圆。喷头11用于向待加工部件20的待加工表面喷涂抛光液110，以对待加工表面进行抛光。嘉兴中芯国际用减薄用清洗剂联系方式