蚀刻(etching)是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。蚀刻技术可以分为湿蚀刻(wetetching)和干蚀刻(dryetching)两类。湿蚀刻就是利用合适的化学溶液腐蚀去除材质上未被光阻覆盖(感光膜)的部分,达到一定的雕刻深度。蚀刻精度高,则可以完成精度要求更高的精细零件的加工,扩大蚀刻应用的范围。目前已经使用的蚀刻液类型有六种类型:酸性氯化铜,碱性氯化铜,氯化铁,过硫酸铵,硫酸/铬酸,硫酸/双氧水蚀刻液。常用的化学药水,硝酸、氢氟酸等。京东方用的哪家的BOE蚀刻液?上海了解BOE蚀刻液电话
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Buffered Oxide Etch,BOE就是buffer oxide etch, B.O.E 缓冲蚀刻液 BOE是HF与NH4F依不同比例混合而成。6:1 BOE蚀刻即表示49%HF水溶液:40%NH4F水溶液=1:6(体积比)的成分混合而成。刻蚀速度约10nm每秒。HF为主要的蚀刻液,NH4F则作为缓冲剂使用。利用NH4F固定〔H+〕的浓度,使之保持一定的蚀刻率。HF会浸蚀玻璃及任何含硅石的物质,对皮肤有强烈的腐蚀性,不小心被溅到,应用大量水冲洗。
BOE(Buffered Oxide Etch),缓冲氧化物刻蚀液。由氢氟酸(49%)与水或氟化铵与水混合而成。
蚀刻是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术,蚀刻技术分为湿蚀刻和干蚀刻,其中,湿蚀刻是采用化学试剂,经由化学反应达到蚀刻的目的,薄膜场效应晶体管液晶显示器(tft~lcd)、发光二极管(led)、有机发光二极管(oled)等行业用作面板过程中铟锡氧化物半导体透明导电膜(ito)的蚀刻通常采用盐酸和硝酸的混合水溶液。现有的制备装置在进行制备时会发热反应,使得装置外壳稳定较高,工作人员直接接触有烫伤风险,热水与盐酸接触会产生较为剧烈的反应,溅出容易伤害工作人员,保护性不足,盐酸硝酸具有较强的腐蚀性,常规的搅拌装置容易被腐蚀,影响蚀刻液的质量,用防腐蚀的聚四氟乙烯搅拌浆进行搅拌,成本过高,且混合的效果不好。所以,如何设计一种ito蚀刻液制备装置,成为当前要解决的问题。上海和辉光电用的哪家的BOE蚀刻液?
微蚀刻液循环再生设备在使用中不但使微蚀刻工序基本实现污染零排放,并产出纯度高、价值高的电解金属铜。 一、微蚀液包括过硫酸钠/硫酸体系和双氧水/硫酸体系,在近几年的运用在PCB之表面处理制程,例如:沉铜(PTH)制程,电镀制程、内层前处理、绿油前处理、OSP处理等生产线。 我们公司目前对过硫酸钠/硫酸和双氧水/硫酸两种体系的微蚀工序研发设计了不同的循环再生设备。 无论是过硫酸钠/硫酸体系还是双氧水/硫酸体系,我司设备均可把饱和微蚀液处理再生后,返回客户生产线继续使用,回用时,不改变客户原生产工艺参数;在运行我们公司设备时可不停机亦可更换药水,从而达到稳定生产的目的。铝BOE蚀刻液的配方是什么?浙江应用BOE蚀刻液电话
BOE蚀刻液应用于什么样的场合?上海了解BOE蚀刻液电话
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