线路板制造流程中的蚀刻工序,是线路板制造的一道重要工序,此工序过程中产生的废液是一种高含铜量的废液(含铜110-160克/升)。对此蚀刻废液,传统的做法是由当地有资质的回收公司把废液拉走,然后使用化学方法(中和法或置换法)回收废液内的铜做成海绵铜或硫酸铜。这些方法工艺落后,铜回收不彻底,处理的经济效益不明显,提完铜后的废液直接外排,造成“二次污染”,对当地水体生态系统造成较大破坏。因此,市面上出现了众多的蚀刻液铜回收系统,采用电解的方式获得阴极铜板,虽然对铜回收有了进一步的成效,但依然存在以下几点不足:(1)阴极铜板表面易被氧化,发黑,纯度低;(2)阴极板上四周都会长铜,且铜分布不均匀,四周被很厚的铜包裹,而中间薄,厚度不一致,阴极板上铜的有效面积小,导致后续很难将铜拆下来;(3)在电解的过程中,挥发出的有害气体溢出,对人体有害;(4)需要人工搬运输送阴极铜板,消耗很多的人力,且效率低。天马微电子用的哪家的BOE蚀刻液?河南哪些新型BOE蚀刻液销售厂
三氯化铁蚀刻液在印制电路、电子和金属精饰等工业中被采用,一般用来蚀刻铜、铜合金、不锈钢、铁及锌、铝等。虽然近些年来越来越要求再生容易,更加环保的蚀刻液,但由于三氯化铁蚀刻液它的工艺稳定,操作方便,价格便宜,因此还仍然被广大蚀刻加工企事业单位采用。三氯化铁蚀刻液适用于网印抗蚀印料、液体感光胶、干膜、镀金抗蚀层等抗蚀层的印制板的蚀刻。(但不适用于镍、锡、锡-铅合金等抗蚀层)1.蚀刻时的主要化学反应三氯化铁蚀刻液对铜箔的蚀刻是一个氧化-还原过程。在铜表面Fe3+使铜氧化成氯化亚铜。同时Fe3+被还原成Fe2+。FeCl3+Cu→FeCl2+CuClCuCl具有还原性,可以和FeCl3进一步发生反应生成氯化铜。FeCl3+CuCl→FeCl2+CuCl2Cu2+具有氧化性,与铜发生氧化反应:CuCl2+Cu→2CuCl所以,FeCl3蚀刻液对Cu的蚀刻时靠Fe3+和Cu2+共同完成的。其中Fe3+的蚀刻速率快,蚀刻质量好;而Cu2+的蚀刻速率慢,蚀刻质量差。新配制的蚀刻液中只有Fe3+,所以蚀刻速率较快。但是随着蚀刻反应的进行,Fe3+不断消耗,而Cu2+不断增加。当Fe3+消耗掉35%时,Cu2+已增加到相当大的浓度,这时Fe3+和Cu2+对Cu的蚀刻量几乎相等;当Fe3+消耗掉50%时。 河南哪些新型BOE蚀刻液供应商如何挑选一款适合公司的BOE蚀刻液?
苏州博洋化学股份有限公司研发中心拥有先进的科研、生产和检测设备,专业的研发团队。致力于电子领域环保、节能、环境友好化学品的研究开发;并根据客户的个性化需求量身定做整套解决方案,力求客户100%满意。公司以苏州大学、苏州科技大学、上海交通大学等高校研发队伍为依托,对新技术、新设备的研究进行精细化管理,以达“技术求新,产品求精”,开发能够提升人类生活品质的新型电子产品配套材料为目标,把公司建成国内前列和国际前列的新型电子化学品材料专业制造企业
酸性蚀刻液是什么?对于蚀刻液用法的理解,我们可以用个比较通俗的说法,那就是使用具有腐蚀性的一些化学材料对某种物品进行腐蚀,将不需要的部分腐蚀掉,从而将其雕刻成所需要的目标物品的过程。那这个具有腐蚀性的化学材料,就称为蚀刻液了。那专业的蚀刻液解释又是什么呢?蚀刻液是通过侵蚀材料的特性来进行雕刻的一种液体,是一种铜版画雕刻用原料。从理论上讲,凡能氧化钢而生成可溶性铜盐的试剂,都可以用来蚀刻敷铜箔板,但是蚀刻液用途要权衡对抗蚀层的破坏情况、蚀刻速度,溶液再生及铜的回收、环境保护及经济效果等各方面的影响因素选择合适的试剂。天马微电子用哪家BOE蚀刻液更多?
在PCB行业中会产生大量微蚀液、蚀刻液、硝酸铜等含有不同浓度的重金属废水,如果不进行处理就直接排放一方面造成资源的严重浪费,另一方面还会严重影响我们环境和自身健康!以前对于这些废液的处理方法是通过投加大量的药剂实现的,但是传统的加化学药剂,操作成本高,且造成大量铜污泥产生及排放废水导电度过高(溶解性盐类造成),导致废水回用难度加大或者根本无法回收使用的后续问题。因此现在一般都是使用提取再生的方式,蚀刻液提取再生的方法有酸性、碱性两大系统,可将大量的废蚀刻液提取再生成为新的蚀刻液。从而减少生产废液的排放,回用降低生产成本,且可提取出高纯度电解金属铜。酸性蚀刻生产线——废液收集槽——中间储存罐——电解槽——配药槽——再生液储存罐——添加槽碱性蚀刻生产线——废液收集——萃铜及废液再生——调配——氨水洗收集——铜回收及氨水洗再生——再生水储存——反萃——电解——出铜。 苏州性价比高的BOE蚀刻液。河南哪些新型BOE蚀刻液供应商
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Buffered Oxide Etch,BOE就是buffer oxide etch, B.O.E 缓冲蚀刻液 BOE是HF与NH4F依不同比例混合而成。6:1 BOE蚀刻即表示49%HF水溶液:40%NH4F水溶液=1:6(体积比)的成分混合而成。刻蚀速度约10nm每秒。HF为主要的蚀刻液,NH4F则作为缓冲剂使用。利用NH4F固定〔H+〕的浓度,使之保持一定的蚀刻率。HF会浸蚀玻璃及任何含硅石的物质,对皮肤有强烈的腐蚀性,不小心被溅到,应用大量水冲洗。
BOE(Buffered Oxide Etch),缓冲氧化物刻蚀液。由氢氟酸(49%)与水或氟化铵与水混合而成。 河南哪些新型BOE蚀刻液销售厂