蚀刻液一般分为酸性蚀刻液和碱性蚀刻液两种。酸性蚀刻液主要成分氯化铜、盐酸、氯化钠和氯化铵。它的机理是:,;酸性蚀刻液具有蚀刻速率易控制,蚀刻液在稳定状态下能达到高的蚀刻质量的特性;同时,它的溶铜量大;酸性蚀刻液也较容易再生与回收,从而减少污染。有研究表明,酸性氯化铜蚀刻液的蚀刻系数通常为3,以硝酸为基础的蚀刻系统可以做到几乎没有侧蚀,达到蚀刻的线条侧壁接近垂直,其蚀刻效果非常好。结合以上特性,酸性蚀刻液一般用于多层印制板的内层电路图形的制作或微波印制板阴板法直接蚀刻图形的制作。BOE蚀刻液的价格哪家比较优惠?浙江工业级BOE蚀刻液供应
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蚀刻是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术,蚀刻技术分为湿蚀刻和干蚀刻,其中,湿蚀刻是采用化学试剂,经由化学反应达到蚀刻的目的,薄膜场效应晶体管液晶显示器(tft~lcd)、发光二极管(led)、有机发光二极管(oled)等行业用作面板过程中铟锡氧化物半导体透明导电膜(ito)的蚀刻通常采用盐酸和硝酸的混合水溶液。现有的制备装置在进行制备时会发热反应,使得装置外壳稳定较高,工作人员直接接触有烫伤风险,热水与盐酸接触会产生较为剧烈的反应,溅出容易伤害工作人员,保护性不足,盐酸硝酸具有较强的腐蚀性,常规的搅拌装置容易被腐蚀,影响蚀刻液的质量,用防腐蚀的聚四氟乙烯搅拌浆进行搅拌,成本过高,且混合的效果不好。所以,如何设计一种ito蚀刻液制备装置,成为当前要解决的问题。
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多级逆流萃取该厂用TY-1络合萃取剂,采用CWL450-M型离心萃取机对含酚废水进行处理。该工艺操作简单,开停车方便,设备维修方便,CWL450-M型离心萃取机理论处理量为15m3/h,混合效果较好,分离速度较快废水量为6m3/h。。操作温度为45℃,逆流萃取后萃取液中酚含量为80mg/L左右,处理后的萃取液满足生化处理的要求,直接进入生化段进行处理。采用18%的碱液(NaOH溶液)进行反萃,反萃后的有机相能够满足萃取的要求,直接进入萃取段继续脱酚,二碱液循环使用至游离碱含量低于5%左右送至酚钠回收工段。磷酸是一种重要的无机酸,中强酸,是化肥工业生产中重要的中间产品,主要用于化学肥料、工业磷酸盐、饲料级磷酸盐、磷酸盐、食品磷酸及电子级磷酸等的生产。浙江工业级BOE蚀刻液供应