铜蚀刻液近期成为重要的微电子化学品产品,广泛应用于平板显示、LED制造及半导体制造领域。随着新技术的不断进步,对该蚀刻液也有了更高的要求。并且之前市场上的铜蚀刻液成分普遍存在含氟、硝酸或高浓度双氧水的情况。在此基础上我司自主进行了无氟,无硝酸,低双氧水浓度铜蚀刻液的研发,并可兼容于不同CuMo镀膜厚度之工艺。产品特点:1.6%双氧水浓度的铜蚀刻液lifetime可至7000ppm。2.末期铜蚀刻液工艺温度(32)下可稳定72H,常温可稳定120H;无暴沸现象。3.铜蚀刻液CD-Loss均一性良好,taper符合制程要求。4.铜蚀刻液可兼容MoCu结构不同膜厚度的机种。友达光电用的哪家的蚀刻液?无锡天马用的蚀刻液蚀刻液什么价格
伸缩杆12下端固定安装有圆环块13,圆环块13与喷头10之间固定连接有连接杆14,分隔板2与承载板3相互垂直设置,电解池4内部底端的倾斜角度设计为5°,进液管8的形状设计为l型,且进液管8贯穿分隔板2设置在进液漏斗6与伸缩管9之间,圆环块13通过伸缩杆12活动安装在喷头10上方,且喷头10通过伸缩管9活动安装在电解池4上方,通过设置有伸缩管9与伸缩杆12,能够在蚀刻液通过进液管8流入到电解池4中时,启动液压缸11带动伸缩杆12向上移动,从而通过圆环块13配合伸缩管9带动喷头10向上移动,进而将蚀刻液缓慢的由喷头10喷入到电解池4中,避免蚀刻液对电解池4造成冲击而影响其使用寿命,具有保护电解池4的功能;分隔板2右端表面靠近上端固定安装有增压泵16,增压泵16下端与电解池4之间连接有回流管15,增压泵16上端与进液管8之间连接有一号排液管17,回流管15内部左端设置有一号电磁阀18,回流管15与进水管27的形状均设计为l型,通过在增压泵16下端设置有回流管15,能够在蚀刻液电解后,启动增压泵16并打开一号电磁阀18,将蚀刻液通过回流管15抽入到一号排液管17中,并由进液管8导入到伸缩管9中,直至蚀刻液由喷头10重新喷到电解池4中。苏州铜钛蚀刻液蚀刻液费用蚀刻液的配方是什么?
本发明涉及蚀刻液组合物及选择添加于该蚀刻液组合物的硅烷系偶联剂的方法。背景技术:参照图1,可以确认3dnand闪存(flashmemory)制造工序中的一部分。3dnand闪存可以通过在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*选择性去除氮化物膜的工序(wetremovalofnitride)来制造。在不损伤氧化物膜的同时将氮化物膜完全去除是这样的氮化物膜去除工序(wetremovalofnitride)的**技术之一。一般而言,氮化物膜去除工序中所使用的蚀刻液组合物利用具有防蚀能力的添加剂以获得在不损伤氧化物膜的同时*将氮化物膜完全去除的效果。但是,想要在不损伤氧化物膜的范围内将氮化物膜完全去除时,会使用防蚀能力强的添加剂,由此可能发生氮化物膜没有被完全去除的工序不良(参照图2)。此外,想要将氮化物膜完全去除时,会使用防蚀能力弱的添加剂,由此虽然氮化物膜被完全去除,但是可能发生对氧化物膜也造成损伤(damage)的工序不良(参照图3)。以往,为了在包含氧化物膜和氮化物膜的多层膜中*将氮化物膜选择性完全去除而选择具有适当水平的防蚀能力的添加剂时,按照添加剂的种类和浓度通过实验进行确认。没有这样的实验确认就选择添加剂实际上是不可能的。
将蚀刻液通过回流管抽入到一号排液管中,并由进液管导入到伸缩管中,直至蚀刻液由喷头重新喷到电解池中,可以充分的将蚀刻液中的亚铜离子电解转化为金属铜,起到循环电解蚀刻液的作用;该回收处理装置通过设置有伸缩管与伸缩杆,能够在蚀刻液通过进液管流入到电解池中时,启动液压缸带动伸缩杆向上移动,从而通过圆环块配合伸缩管带动喷头向上移动,进而将蚀刻液缓慢的由喷头喷入到电解池中,避免蚀刻液对电解池造成冲击而影响其使用寿命,具有保护电解池的功能;该回收处理装置通过设置有集气箱与蓄水箱,能够在电解蚀刻液结束后,启动抽气泵,将电解池中产生的有害气体抽入到排气管并导入到集气箱中,实现有害气体的清理,接着启动增压泵并打开三号电磁阀,将蓄水箱中的清水通过抽水管抽入到进液管中,将装置主体内部的蚀刻液进行清洗,具有很好的清理作用。附图说明图1为本发明的整体结构示意图;图2为本发明的内部结构示意图;图3为本发明图2中a的示意图;图4为本发明图3的整体示意图;图5为本发明电解池的结构示意图。图中:1、装置主体;2、分隔板;3、承载板;4、电解池;5、隔膜;6、进液漏斗;7、过滤网;8、进液管;9、伸缩管;10、喷头;11、液压缸。蚀刻液的的性价比、质量哪家比较好?
本发明涉及回收处理技术领域,具体为一种废铜蚀刻液的回收处理装置。背景技术:废铜蚀刻液含有可回收的金属,所以需要进行回收处理,目前通用的做法是,使用化学方法回收废液内的铜,或提炼成硫酸铜产品,工艺落后,铜回收不彻底,处理的经济效益不明显,有二次污染污染物排放,一旦处理不当往外排放,势必对水体生态系统造成大的冲击。市场上的废铜蚀刻液的回收处理装置只能简单的对蚀刻液进行回收处理,不能对蚀刻液进行循环电解,使得剩余蚀刻液中的铜离子转化不充分,而且蚀刻液导入到电解池中会对电解池造成冲击,进而影响电解池的使用寿命,并且在回收处理中会产生有害气体而影响空气环境,也不能在回收结束后对装置内部进行清理,为此,我们提出一种废铜蚀刻液的回收处理装置。技术实现要素:本发明的目的在于提供一种废铜蚀刻液的回收处理装置,以解决上述背景技术中提出的市场上的废铜蚀刻液的回收处理装置只能简单的对蚀刻液进行回收处理,不能对蚀刻液进行循环电解,使得剩余蚀刻液中的铜离子转化不充分,而且蚀刻液导入到电解池中会对电解池造成冲击,进而影响电解池的使用寿命,并且在回收处理中会产生有害气体而影响空气环境。天马微电子用哪家蚀刻液更多?扬州铜钛蚀刻液蚀刻液什么价格
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提高反应体系的稳定性。当体系中加入过氧化氢后有助于提高过氧化氢的稳定性,避免由于过氧化氢分解而引发的,提高生产的安全性。具体实施方式下面结合实施例,对本发明的具体实施方式作进一步描述。以下实施例用于更加清楚地说明本发明的技术方案,而不能以此来限制本发明的保护范围。一种酸性铜蚀刻液的生产工艺,所述工艺包括以下步骤:第一步:将纯水进行低温处理,使纯水温度≤10℃在纯水罐中备用;纯水罐中设有通过电路控制的电磁阀,当纯水温度高于10℃时,电磁阀无法打开。第二步:配制和准备原料,将亚氨基二乙酸、氢氟酸和乙醇酸分别投入对应的原料罐中,经过过滤器循环过滤,备用;将hno3、四甲基氢氧化铵、h2o2分别投入对应的原料罐,备用。亚氨基二乙酸、氢氟酸和乙醇酸需要稀释后使用,hno3、四甲基氢氧化铵、h2o2无需调配可直接用于制备蚀刻液。第三步:根据混酸配制表算出各个原料的添加量,按照纯水→亚氨基二乙酸→氢氟酸→hno3→四甲基氢氧化铵→乙醇酸的顺序依次将原料加入调配罐,将上述混料充分搅拌,搅拌时间为3~5h。第四步:在第三步的混料中再添加h2o2,继续搅拌混匀,搅拌时间为3~5h,用磁力泵将混合液通过过滤器循环过滤。无锡天马用的蚀刻液蚀刻液什么价格