本申请涉及半导体工艺技术领域,具体涉及一种剥离液机台及其工作方法。背景技术:剥离(lift-off)工艺通常用于薄膜晶体管(thinfilmtransistor)制程中的光罩缩减,lift-off先形成光阻并图案化,再在光阻上成膜,移除光阻的同时,沉积在光阻上的膜层也被剥离,从而完成膜层的图形化,通过该制程可以实现两次光刻合并为一次以达到光罩缩减的目的。现有技术中,由于光阻上沉积了薄膜(该薄膜材料可以为金属,ito(氧化铟锡)等用于制备tft的膜层),在剥离光阻的同时薄膜碎屑被带入剥离液(stripper)中,大量的薄膜碎屑将会导致剥离液机台中的过滤器(filter)堵塞,从而导致机台无法使用,并且需要停止所有剥离液机台的工作,待将filter清理后再次启动,降低了生产效率。技术实现要素:本申请实施例提供一种剥离液机台及其工作方法,可以提高生产效率。本申请实施例提供一种剥离液机台,包括:依次顺序排列的多级腔室、每一级所述腔室对应连接一存储箱;过滤器,所述过滤器的一端设置通过***管道与当前级腔室对应的存储箱连接,所述过滤器的另一端通过第二管道与下一级腔室连接;其中,至少在所述***管道或所述第二管道上设置有阀门开关。在一些实施例中。剥离液蚀刻后如何判断好坏 ?铜钛蚀刻液剥离液费用
本申请实施例还提供一种剥离液机台的工作方法,请参阅图5,图5为本申请实施例提供的剥离液机台的工作方法的流程示意图,该方法包括:步骤110、将多级腔室顺序排列,按照处于剥离制程的剥离基板的传送方向逐级向剥离基板提供剥离液;步骤120、将来自于当前级腔室经历剥离制程的剥离液收集和存储于当前级腔室相应的存储箱中,所述剥离液中夹杂有薄膜碎屑;步骤130、使用当前级腔室相应的过滤器过滤来自当前级腔室的剥离液并将过滤后的剥离液传输至下一级腔室;步骤140、若所述过滤器被所述薄膜碎屑阻塞,则关闭连接被阻塞的所述过滤器的管道上的阀门开关;步骤150、取出被阻塞的所述过滤器。若过滤器包括多个并列排布的子过滤器,则可以关闭被阻塞的子过滤器的阀门,因此,步骤140还可以包括:若所述过滤器包括多个并列排布的子过滤器,则关闭连接被阻塞的所述子过滤器的管道上的阀门开关。在上述实施例中,对各个实施例的描述都各有侧重,某个实施例中没有详述的部分,可以参见其他实施例的相关描述。以上对本申请实施例进行了详细介绍,本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其**思想。芜湖铝钼铝蚀刻液剥离液商家剥离液应用于什么样的场合?
砷化镓也有容易被腐蚀的特点,比如碱性的氨水、酸性的盐酸、硫酸、硝酸等。去胶,也成为光刻胶的剥离。即完成光刻镀膜等处理之后,需要去除光刻胶之后进行下一步。有时直接采用**+异丙醇的方式就可以去除。但是对于等离子体处理过的光刻胶,一般就比较难去除干净。有的人把**加热到60℃,虽然去胶效果快了一些,但是**沸点是60℃,挥发的特别快,而且**蒸汽也有易燃的风险,因此找一款去胶效果好的光刻胶剥离液十分有必要。介绍常见的一款剥离液,该剥离液去胶效果好,但是对砷化镓有轻微腐蚀,不易长时间浸泡。工艺参数因产品和光刻胶的种类而不同,但基本上都要加热。
本发明涉及剥离液技术领域:,更具体的说是涉及一种光刻胶剥离液再生方法。背景技术::电子行业飞速发展,光刻胶应用也越来越***。在半导体元器件制造过程中,经过涂敷-显影-蚀刻过程,在底层金属材料上蚀刻出所需线条之后,必须在除去残余光刻胶的同时不能损伤任何基材,才能再进行下道工序。因此,光刻胶的剥离质量也有直接影响着产品的质量。而随着电子行业的发展以及高世代面板的面世,光刻胶剥离液的使用越来越多。剥离液废液中含有光刻胶树脂、水和某些金属杂质,而剥离液废液的处理主要是通过焚烧或者低水平回收,其大量的使用但不能够有效地回收,对环境、资源等都造成了比较大的影响。有鉴于此,申请人研发出以下的对使用后的光刻胶剥离液回收及再生方法。技术实现要素:本发明的目的是提供一种光刻胶剥离液再生方法。为了实现上述目的,本发明采用如下技术方案:本申请公开了一种高世代面板铜制程光刻胶剥离液,包括以下质量组分:光刻胶剥离液再生方法,包括以下步骤:s1:回收剥离液新液使用后的剥离液废液,将剥离液废液经过蒸馏、加压工序,得出剥离液废液的纯化液体;纯化液体中含有酰胺化合物、醇醚化合物以及胺化合物;s2:制备添加剂。天马微电子用的哪家的剥离液?
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每一所述第二子管道502与所述公共子管道501连通,所述公共子管道501与所述下一级腔室102连通。其中,阀门开关60设置在每一***子管道301上。在一些实施例中,阀门开关60设置在每一***子管道401及每一所述第二子管道502上。在一些实施例中,阀门开关60设置在每一第二子管道502上。具体的,阀门开关60的设置位置可以设置在连接过滤器30的任意管道上,在此不做赘述。在一些实施例中,请参阅图4,图4为本申请实施例提供的剥离液机台100的第四种结构示意图。第二管道50包括多个第三子管道503,每一所述第三子管道503与一子过滤器连通301,且每一所述第三子管道503与所述下一级腔室连通102。其中,阀门开关60设置在每一第三子管道503上。本申请实施例提供的剥离液机台,包括:依次顺序排列的多级腔室、每一级所述腔室对应连接一存储箱;过滤器,所述过滤器的一端设置通过***管道与当前级腔室对应的存储箱连接,所述过滤器的另一端通过第二管道与下一级腔室连接;其中,至少在***管道或所述第二管道上设置有阀门开关。通过阀门开关控制连接每一级腔室的过滤器相互独立,从而在过滤器被阻塞时通过阀门开关将被堵塞的过滤器取下并不影响整体的剥离进程,提高生产效率。铜钛蚀刻液剥离液费用
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