企业商机
蚀刻液基本参数
  • 品牌
  • 博洋化学
  • 产品名称
  • 钼铝钼蚀刻液
  • 纯度级别
  • 超纯/高纯
  • 类别
  • 无机酸
  • 产品性状
  • 液态
蚀刻液企业商机

    所述液位计7安装于所述分离器的外表面。液位计7安装在方便工作人员查看的位置,有利于提高工作人员工作的效率。在一个实施例中,如图1所示,所述液位开关9为控制阀,设置于所述滤液出口2处。控制阀为内螺纹截止阀,通过旋转操纵盘实现阀门的开关,这种阀结构简单,维修方便,工作行程小,启闭时间短,使用寿命长。在一个实施例中,如图2所示,所述分离器的侧壁上设有多个视镜10。分离器侧壁上设置的视镜10可以帮助工作人员辅助判断液位计7的工作状况。在一个实施例中,如图1所示,所述加热器11为盘管式加热器。盘管式加热器的受热更加均匀,加热效率更高。在一个实施例中,如图1所示,所述分离器底部为锥体形状。分离器底部设置成锥体形状更有利于滤液排出,不会残留在分离器内。以上所述是本实用新型的推荐实施方式,本实用新型的保护范围并不局限于上述实施例,凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。哪家公司的蚀刻液的是口碑推荐?合肥铜蚀刻液蚀刻液生产

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    本实用涉及电子化学品生产设备技术领域,具体为高蚀刻速率无残留酸性铝蚀刻液生产装置。背景技术:近年来,人们对半导体装置、液晶显示器的需求量不断增加的同时,对于这些装置所具有的配线、电极等的微小化、高性能化的要求也越来越严格,而蚀刻的效果能直接导致电路板制造工艺的好坏,影响高密度细导线图像的精度和质量,为了解决蚀刻液组合物蚀刻铝材料过程中,对蚀刻速率慢、难以控制蚀刻角度和不同金属层的蚀刻量而造成的多层配线的半导体装置的配线的断路、短路,得到较高的成品率,为保证其稳定性及蚀刻的平滑度及精度,在蚀刻液中需要加入多种组分,而常规的生产方法是将蚀刻液中的各组份在同一容器中一起混合。现有的高蚀刻速率无残留酸性铝蚀刻液生产装置密封性差,连接安装步骤繁琐,还需要使用工具才能进行连接安装或拆卸,而且现有的高蚀刻速率无残留酸性铝蚀刻液生产装置没有过滤的部件,蚀刻液中的各组份蚀刻液杂质含量多,且多种强酸直接共混存在较大的安全隐患,装置不够完善,难以满足现代社会的需求。所以,如何设计高蚀刻速率无残留酸性铝蚀刻液生产装置,成为我们当前需要解决的问题。安庆市面上哪家蚀刻液推荐厂家蚀刻液的技术指标哪家比较好?

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可用于银镍合金、银铜合金以及纯银的蚀刻,蚀刻后板面平整光滑。剂对油墨没有影响,可用于花纹蚀刻处理。三、使用方法:1、原液使用,不须加水,操作温度可以是25℃-60℃,温度越高,速度越快。2、将银板浸泡在银蚀刻剂中。用软毛刷来回轻轻刷动,使药水与银充分均匀反应;或者也可以用摇床,使药水来回动运,使板蚀刻速度加快。但不能超声波,以免破坏(感光)油墨。参考数据:50℃→5分钟→0.1毫米深度。30℃→20分钟→0.1毫米深度。3、水洗后做后续处理。

    技术实现要素:本实用新型的目的在于提供高蚀刻速率无残留酸性铝蚀刻液生产装置,以解决上述背景技术中提出密封性差,连接安装步骤繁琐的问题。为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:高蚀刻速率无残留酸性铝蚀刻液生产装置,包括装置主体、支撑腿、电源线和单片机,所述装置主体的底端固定连接有支撑腿,所述装置主体的后面一侧底部固定连接有电源线,所述装置主体的一侧中间部位固定连接有控制器,所述装置主体的内部底端一侧固定连接有单片机,所述装置主体的顶部一端固定连接有去离子水储罐,所述装置主体的顶部一侧固定连接有磷酸储罐,所述磷酸储罐的底部固定连接有搅拌仓,所述搅拌仓的内部顶部固定连接有搅拌电机,所述搅拌仓的另一侧顶部固定连接有醋酸储罐,所述装置主体的顶部中间一侧固定连接有硝酸储罐,所述装置主体的顶部中间另一侧固定连接有阴离子表面活性剂储罐,所述阴离子表面活性剂储罐的另一侧固定连接有聚氧乙烯型非离子表面活性剂储罐,所述装置主体的顶部另一侧固定连接有氯化钾储罐,所述装置主体的顶部另一端固定连接有硝酸钾储罐,所述装置主体的内部中间部位固定连接有连接构件。哪家的蚀刻液比较好用点?

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    本实用新型涉及资源回收再利用领域,特别是涉及含铜蚀刻液气液分离装置。背景技术:线路板生产工业中,会对已经使用于蚀刻线路板的含铜蚀刻废液进行回收利用,在回收过程中,废液在加热器中通过蒸汽进行换热,换热完的废液在高温状态下进入分离器,会在分离器中发生闪蒸,闪蒸产生的二次蒸汽中,携带有大小不等的液滴,现有技术因缺乏有效的分离气液的手段,含有铜的液体随着蒸汽被排走,导致了产品发生损失。技术实现要素:基于此,有必要针对现有技术气液分离率低的问题,提供一种含铜蚀刻液气液分离装置。一种含铜蚀刻液气液分离装置,包括分离器及加热器,所述分离器设有液体入口、蒸汽出口及滤液出口,所述液体入口用于将加热器产生的液体输入至分离器中,所述液体入口处设有减压阀,所述蒸汽出口处设有真空泵、除雾组件及除沫组件,所述除雾组件用于过滤分离器中闪蒸的蒸汽中的含铜液体,所述除沫组件用于将经除雾组件除雾的气体进行除沫。在其中一个实施例中,所述除雾组件为设有多个平行且曲折的通道的折流板。在其中一个实施例中,所述除沫组件为丝网。在其中一个实施例中,所述分离器设有液位计、液位开关、液相气相温度传感器和压力传感器。在其中一个实施例中。哪家的蚀刻液的价格低?苏州江化微的蚀刻液蚀刻液销售厂家

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    本发明涉及一种用来在铜的存在下选择性地蚀刻钛的蚀刻液及使用该蚀刻液的蚀刻方法。背景技术:以往,在蚀刻钛时一直使用含有氢氟酸或过氧化氢的蚀刻液。例如专利文献1中提出了一种钛的蚀刻液,该钛的蚀刻液是用来在铜或铝的存在下蚀刻钛,并且该蚀刻液的特征在于:利用由10重量%至40重量%的过氧化氢、%至5重量%的磷酸、%至%的膦酸系化合物及氨所构成的水溶液将pH值调整为7至9。但是,含有氢氟酸的蚀刻液存在毒性高的问题,含有过氧化氢的蚀刻液存在缺乏保存稳定性的问题。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特许第4471094号说明书。技术实现要素:发明所要解决的问题本发明是鉴于所述实际情况而成,其目的在于提供一种蚀刻液及使用该蚀刻液的蚀刻方法,所述蚀刻液可在铜的存在下选择性地蚀刻钛,而且毒性低,保存稳定性优异。解决问题的技术手段本发明的蚀刻液是为了在铜的存在下选择性地蚀刻钛而使用,并且含有:选自由硫酸、盐酸及三氯乙酸所组成的群组中的至少一种酸;以及选自由硫酮系化合物及硫醚系化合物所组成的群组中的至少一种有机硫化合物。所述硫酮系化合物推荐为选自由硫脲、二乙基硫脲及三甲基硫脲所组成的群组中的至少一种。合肥铜蚀刻液蚀刻液生产

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蚀刻液产品展示
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