企业商机
剥离液基本参数
  • 品牌
  • 博洋化学
  • 纯度级别
  • 超纯/高纯
  • 类型
  • 醇,醚
  • 产品性状
  • 液态
剥离液企业商机

    例如即使为50/50μm以下的线/间距、推荐10/10~40/40μm的线/间距也能除去抗蚀剂。实施例以下,举出实施例对本发明进行详细说明,但本发明不受这些实施例任何限定。实施例1抗蚀剂的剥离液的制备:将以下的表1中记载的成分在水中混合、溶解而制备抗蚀剂的剥离液。【表1】(mol/l)氢氧化钾氢氧化钠异丙基溶纤剂硅酸钾本发明组成:(1)基板制作方法为了提**膜抗蚀剂一基材间的密合,将覆铜层叠板(古河电工(株式会社)制:ccl:电解铜箔gts35μm箔)通过粗化处理(jcu制:ebakemuneobrownnbsii、蚀刻量μm)使表面粗度成为ra约μm。其后,使用干膜抗蚀剂(日立化成制:rd-1225(sap用):25μm厚)实施从层压到图案曝光、显影。向本基板以15μm厚实施镀铜(jcu制:cu-britevl)后,切出50×50mm2作为试验片。需要说明的是,该试验片是在一片上具有以下的表2的l/s的图案部分和黏性部分的试验片。(2)图案基板上残留的抗蚀剂的评价方法上述评价方法中将喷涂运行时间固定在4分钟,按照以下的评价基准评价l/s=20/20~40/40μm的图案部分有无剥离残渣。将其结果示于表2。<剥离残渣的评价基准>(分数)(内容)1:无残渣2:有极少量残渣。好的剥离液的标准是什么。浙江格林达剥离液销售价格

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    上述组分中,酰胺是用于溶解光刻胶;醇醚是用于润湿、膨润、溶解光刻胶的;环胺与链胺,用于渗透、断开光刻胶分子间弱结合力;缓蚀剂,用于降低对金属的腐蚀速度;润湿剂,能够增强亲水性,使得剥离液亲水性良好,能快速高效地剥离溶解光刻胶。进一步技术方案中,所述的步骤s3中重新制备剥离液新液,制备过程中加入酰胺化合物或醇醚化合物,其中重新制备新液时,加入的纯化液体质量分数为:70%-95%,加入的添加剂质量分数为:5%-10%;加入的酰胺化合物质量分数为:0-15%;加入的醇醚化合物质量分数为0-5%。在制备过程中额外加入酰胺化合物以及醇醚化合物是为了调节中心制备的剥离液新液中各组分的质量分数,将配比调节到更优的比例,使得剥离液新液的效果更好。经由上述的技术方案可知,与现有技术相比,本发明具有以下有益效果:本发明对剥离液废液进行加压、蒸馏等处理,得出纯化液体,该纯化液体中所含的物质是剥离液新液中所含有的某些组分,而通过预先制备添加剂,可以在得出纯化液体后直接加入添加剂以及原材料,重新配备剥离液新液,使得剥离液废液得以循环再生,减少资源的浪费以及对环境的危害。南京市面上哪家剥离液销售厂家剥离液使用时要注意什么?

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根据对华新光电、日东集团的剥离液成分进行分析得知,剥离液主要成分为单乙醇胺(MEA),二甲亚砜(DMS0)和二乙二醇单丁醚(BDG),其中市场上大部分以二乙二醇单丁醚居多。剥离液废液多呈深黑色且气味大,由以下几种组分构成:(1)、1~20%重量的醇胺或者酰胺,以伯胺和肿胺为主。(2)、10~60%重量的醇;(3)、10~50%重量的水;(4)、5~50%重量的极性有机溶剂,如;N-甲基吡咯烷酮(NMP),环丁基砜、二甲基亚砜(DMSO)、二甲基乙酰胺、N-乙基甲酰胺等。(5)、0.001~3%重量的金属抗蚀剂,如2-氨基环己醇、2-氨基环戊醇等。根据上述分析可以看出,剥离液中大部分是有机溶剂,可以加以回收资源化利用,或者将剥离废液进行脱色净化处理后再用于生产中,配成剥离液。当前国内主要产生剥离液的厂家主要分布在天津及深圳一带,均是高新技术发达区域,随着国内经济及城市的发展,剥离液产废地点将越来越***,也将引起环保**的重视及关注。剥离液主要产废厂家诸如上海和辉光电有限公司、深圳市聚飞光电股份有限公司、深圳市三利谱光电科技股份有限公司、深圳市联建光电服份有限公司、深圳成光兴光电技术股份有限公司、

1.显影液:显影液是一种溶液,用于在PCB板上显示铜线轨道的比例和位置,使其成为可以用于焊接元件的良好的PCB板。2.剥离液:剥离液是一种特殊的溶剂,用于将PCB板上的铜线轨道剥离开,以便重新焊接元件。3.蚀刻液:蚀刻液是一种酸性溶液,用于将PCB板上的铜线轨道腐蚀掉,以便重新焊接元件。4.清洗液:清洗液是一种混合物,用于将PCB板上的尘埃、污垢和其他残留物消除干净,以便进行焊接和装配。

1.显影液:是指用于显影制版的液体,一般由溶剂、硫酸铜、有机酸和抗氧化剂等组成。2.剥离液:是指用于把制版上的显影膜剥离出来的液体,一般由硝酸铝、硫酸钠等组成。3.蚀刻液:是指用于蚀刻制版的液体,一般由硝酸铜、硝酸钠、硝酸锌等组成。4.清洗液:是指用于清洗制版的液体,一般由水、硝酸、硫酸、乙醇等组成。 哪家的剥离液蚀刻效果好?

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    使用当前级腔室相应的过滤器过滤来自当前级腔室的剥离液并将过滤后的剥离液传输至下一级腔室;若所述过滤器被所述薄膜碎屑阻塞,则关闭连接被阻塞的所述过滤器的管道上的阀门开关;取出被阻塞的所述过滤器。在一些实施例中,所述若所述过滤器被所述薄膜碎屑阻塞,则关闭连接被阻塞的所述过滤器的管道上的阀门开关包括:若所述过滤器包括多个并列排布的子过滤器,则关闭连接被阻塞的所述子过滤器的管道上的阀门开关。本申请实施例还提供一种剥离液机台,包括:依次顺序排列的多级腔室、每一级所述腔室对应连接一存储箱;过滤器,所述过滤器的一端设置通过***管道与当前级腔室对应的存储箱连接,所述过滤器的另一端通过第二管道与下一级腔室连接;其中,至少在所述***管道或所述第二管道上设置有阀门开关开关。通过阀门开关控制连接每一级腔室的过滤器相互独立,从而在过滤器被阻塞时通过阀门开关将被堵塞的过滤器取下并不影响整体的剥离进程,提高生产效率。附图说明为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图**是本申请的一些实施例,对于本领域技术人员来讲。如何正确使用剥离液。浙江格林达剥离液销售价格

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    本发明涉及剥离液技术领域:,更具体的说是涉及一种光刻胶剥离液再生方法。背景技术::电子行业飞速发展,光刻胶应用也越来越***。在半导体元器件制造过程中,经过涂敷-显影-蚀刻过程,在底层金属材料上蚀刻出所需线条之后,必须在除去残余光刻胶的同时不能损伤任何基材,才能再进行下道工序。因此,光刻胶的剥离质量也有直接影响着产品的质量。而随着电子行业的发展以及高世代面板的面世,光刻胶剥离液的使用越来越多。剥离液废液中含有光刻胶树脂、水和某些金属杂质,而剥离液废液的处理主要是通过焚烧或者低水平回收,其大量的使用但不能够有效地回收,对环境、资源等都造成了比较大的影响。有鉴于此,申请人研发出以下的对使用后的光刻胶剥离液回收及再生方法。技术实现要素:本发明的目的是提供一种光刻胶剥离液再生方法。为了实现上述目的,本发明采用如下技术方案:本申请公开了一种高世代面板铜制程光刻胶剥离液,包括以下质量组分:光刻胶剥离液再生方法,包括以下步骤:s1:回收剥离液新液使用后的剥离液废液,将剥离液废液经过蒸馏、加压工序,得出剥离液废液的纯化液体;纯化液体中含有酰胺化合物、醇醚化合物以及胺化合物;s2:制备添加剂。浙江格林达剥离液销售价格

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