晶体管公共发射极（CE）配置：在此电路中，放置了发射极输入和输出通用。输入信号施加在基极和发射极之间，输出信号施加在集电极和发射极之间。Vbb和Vcc是电压。它具有高输入阻抗，即（500-5000欧姆）。它具有低输出阻抗，即（50-500千欧）。电流增益将很高（98），即beta（dc）=Ic/Ie功率增益高达37db。输出将异相180度。晶体管公共集电极配置：在此电路中，集电极对输入和输出均通用。这也称为发射极跟随器。输入阻抗高（150-600千欧），输出阻抗低（100-1000欧）。电流增益会很高（99）。电压增益将小于1。功率增益将是平均的。
场效应晶体管的三个极，分别是源极、栅极和漏极。河源场效应晶体管
CT---势垒电容Cj---结（极间）电容，；表示在二极管两端加规定偏压下，锗检波二极管的总电容Cjv---偏压结电容Co---零偏压电容Cjo---零偏压结电容Cjo/Cjn---结电容变化Cs---管壳电容或封装电容Ct---总电容CTV---电压温度系数。在测试电流下，稳定电压的相对变化与环境温度的变化之比CTC---电容温度系数Cvn---标称电容。
IF---正向直流电流（正向测试电流）。锗检波二极管在规定的正向电压VF下，通过极间的电流；硅整流管、硅堆在规定的使用条件下，在正弦半波中允许连续通过的最大工作电流（平均值），硅开关二极管在额定功率下允许通过的最大正向直流电流；测稳压二极管正向电参数时给定的电流
什么是晶体管配置？
通常，共有三种类型的配置，其关于增益的描述如下：
共基（CB）配置：它没有当前增益，但具有
公共集电极（CC）配置：它具有电流增益，但是没有电压增益。
公共发射极（CE）配置：它同时具有电流增益和电压增益。
晶体管公共基极（CB）配置：在此电路中，将基座放置在输入和输出共用的位置。它具有低输入阻抗（50-500欧姆）。它具有高输出阻抗（1-10兆欧）。相对于基础端子测得的电压。因此，输入电压和电流将为Vbe＆Ie，输出电压和电流将为Vcb＆Ic。
电流增益将小于1，即alpha（dc）=Ic/Ie
电压增益将很高。
功率增益将是平均水平。
晶体管（transistor）是一种类似于阀门的固体半导体器件，可以用于放大、开关、稳压、信号调制和许多其他功能。在1947年，由美国物理学家约翰·巴丁、沃尔特·布喇顿和英国物理学家威廉·肖克利（WilliamShockley，1910—1989）所发明。他们也因为半导体及晶体管效应的研究获得1956年诺贝尔物理奖。二战之后，贝尔实验室成立了一个固体物理研究小组，他们要制造一种能替代电子管的半导体器件。此前，贝尔实验室就对半导体材料进行了研究，发现掺杂的半导体整流性能比电子管好。因此小组把注意力放在了锗和硅这两种半导体材料上。双极晶体管指在音频电路中使用得非常普遍的一种晶体管。
通俗易懂的三极管工作原理*1、晶体三极管简介。晶体三极管是p型和n型半导体的有机结合，两个pn结之间的相互影响，使pn结的功能发生了质的飞跃，具有电流放大作用。晶体三极管按结构粗分有npn型和pnp型两种类型。如图2-17所示。（用Q、VT、PQ表示）三极管之所以具有电流放大作用，首先，制造工艺上的两个特点：(1)基区的宽度做的非常薄；(2)发射区掺杂浓度高，即发射区与集电区相比具有杂质浓度高出数百倍。2、晶体三极管的工作原理。其次，三极管工作必要条件是(a)在B极和E极之间施加正向电压(此电压的大小不能超过1V)；（b）在C极和E极之间施加反向电压（此电压应比eb间电压较高）；（c）若要取得输出必须施加负载。晶体管的主要参数有电流放大系数、耗散功率、频率特性、集电极比较大电流、比较大反向电压等。常州晶体管供应
晶体管作为一种可变电流开关，能够基于输入电压控制输出电流。河源场效应晶体管
我们的大脑由1000亿个称为神经元的细胞组成，这些细胞用于思考和记忆事物。就像计算机一样，也有数十亿个名为晶体管的微小脑细胞。它由从称为硅的沙子中提取的化学元素组成。晶体管已经由JohnBardeen，WalterBrattain和WilliamShockley进行了半个多世纪的设计，因此从根本上改变了电子学的理论。这些设备由通常用于放大或开关目的的半导体材料制成，也可以用于控制电压和电流的流动。它还用于将输入信号放大为扩展区输出信号。晶体管通常是由半导体材料制成的固态电子设备。电流的循环可以通过添加电子来改变。该过程使电压变化成比例地影响输出电流中的许多变化，从而使放大倍增。除了大多数电子设备外，并非所有的电子设备都包含一种或多种类型的晶体管。某些晶体管单独放置或通常放置在集成电路中，这些晶体管会根据状态应用而有所不同。河源场效应晶体管
