晶体管发明并大量生产之后，各式固态半导体组件如二极管、晶体管等大量使用，取代了真空管在电路中的功能与角色。到了20世纪中后期半导体制造技术进步，使得集成电路成为可能。相对于手工组装电路使用个别的分立电子组件，集成电路可以把很大数量的微晶体管集成到一个小芯片，是一个巨大的进步。集成电路的规模生产能力，可靠性，电路设计的模块化方法确保了快速采用标准化集成电路代替了设计使用离散晶体管。
集成电路对于离散晶体管有两个主要优势：成本和性能。成本低是由于芯片把所有的组件通过照相平版技术，作为一个单位印刷，而不是在一个时间只制作一个晶体管。性能高是由于组件快速开关，消耗更低能量，因为组件很小且彼此靠近。2006年，芯片面积从几平方毫米到350 mm²，每mm²可以达到一百万个晶体管。 | 无锡微原电子科技，用专业的态度对待每一颗芯片。宝山区现代化集成电路芯片
IC由很多重叠的层组成，每层由视频技术定义，通常用不同的颜色表示。一些层标明在哪里不同的掺杂剂扩散进基层（成为扩散层），一些定义哪里额外的离子灌输（灌输层），一些定义导体（多晶硅或金属层），一些定义传导层之间的连接（过孔或接触层）。所有的组件由这些层的特定组合构成。在一个自排列（CMOS）过程中，所有门层（多晶硅或金属）穿过扩散层的地方形成晶体管。电阻结构，电阻结构的长宽比，结合表面电阻系数，决定电阻。电容结构，由于尺寸限制，在IC上只能产生很小的电容。更为少见的电感结构，可以制作芯片载电感或由回旋器模拟。嘉定区现代化集成电路芯片| 无锡微原电子科技，集成电路芯片的可靠伙伴。
纠缠量子光源2023年4月，德国和荷兰科学家组成的国际科研团队***将能发射纠缠光子的量子光源完全集成在一块芯片上 。原子级薄晶体管2023年，美国麻省理工学院一个跨学科团队开发出一种低温生长工艺，可直接在硅芯片上有效且高效地“生长”二维（2D）过渡金属二硫化物（TMD）材料层，以实现更密集的集成 。4纳米芯片当地时间2025年1月10日，美国商务部长吉娜·雷蒙多表示，台积电已开始在亚利桑那州为美国客户生产4纳米芯片。
20世纪中期半导体器件制造的技术进步使集成电路变得实用。自从20世纪60年代问世以来，芯片的尺寸、速度和容量都有了巨大的进步，这是由越来越多的晶体管安装在相同尺寸的芯片上的技术进步所推动的。现代芯片在人类指甲大小的区域内可能有数十亿个晶体管晶体管。这些进展大致跟随摩尔定律，使得***的计算机芯片拥有上世纪70年代早期计算机芯片数百万倍的容量和数千倍的速度。集成电路相对于分立电路有两个主要优势：成本和性能。成本低是因为芯片及其所有组件通过光刻作为一个单元印刷，而不是一次构造一个晶体管。
制作方式不同集成电路采用一定的工艺，把一个电路中所需的晶体管、电阻、电容和电感等元件及布线互连一起，制作在一小块或几小块半导体晶片或介质基片上，然后封装在一个管壳内。而芯片使用单晶硅晶圆（或III-V族，如砷化镓）用作基层，然后使用光刻、掺杂、CMP等技术制成MOSFET或BJT等组件，再利用薄膜和CMP技术制成导线，如此便完成芯片制作。以上就是关于集成电路和芯片区别的介绍了，总的来说，集成电路也称为芯片，因为面IC的封装类似于芯片。一组集成电路通常称为芯片组，而不是IC组。集成电路或IC是当今几乎所有电子设备中使用的设备。半导体技术和制造方法的发展导致了集成电路的发明。| 无锡微原电子科技，集成电路芯片技术的领航者。
集成电路的早期发展可以追溯到1949年，当时德国工程师沃纳·雅可比[4]（西门子)[5]申请了集成电路状半导体放大器的**[6]示出了公共衬底上的五个晶体管组成的三级放大器。雅可比披露了小巧便宜的助听器作为他**的典型工业应用。他的**尚未被报道而立即用于商业用途。集成电路的概念是由杰弗里·杜默(1909-2002)提出的，一名工作于英国**部皇家雷达机构的雷达科学家。杜默在公元1952年5月7日华盛顿质量电子元件进展研讨会上向公众提出了这个想法。[7]他公开举办了许多研讨会来宣传他的想法，并在1956年试图建造这样一个电路，但没有成功。| 专业铸就品质，无锡微原电子科技的芯片技术。虹口区集成电路芯片发展现状
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型号的分类：
芯片命名方式一般都是：字母+数字+字母前面的字母是芯片厂商或是某个芯片系列的缩写。像MC开始的多半是摩托罗拉的，MAX开始的多半是美信的。中间的数字是功能型号。像MC7805和LM7805，从7805上可以看出它们的功能都是输出5V，只是厂家不一样。后面的字母多半是封装信息，要看厂商提供的资料才能知道具体字母代表什么封装。74系列是标准的TTL逻辑器件的通用名称，例如74LS00、74LS02等等，单从74来看看不出是什么公司的产品。不同公司会在74前面加前缀，例如SN74LS00等。 宝山区现代化集成电路芯片
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