芯弃疾JX-8B数字ELISA
产品每个生物实验室都用得起的单分子免疫检测
数字ELISA测量蛋白质浓度远低于传统ELISA的能力源于两种效应：
1）SiMoA对酶标记的高度敏感性；以及2）通过数字化蛋白质检测可以实现的低背景信号。任何免疫测定的灵敏度由其灵敏度决定。检测技术到标签，抗体亲和力，试验背景，以及背景测量值的变异（%CV）27.SiMoA对酶非常敏感标签
2）为在数字ELISA中检测亚飞摩尔浓度的标记蛋白提供了基础。也就是说，对于给定亲和力的抗体，其灵敏度为免疫测定将由测定背景决定，SiMoA的高标记灵敏度有助于降低这种背景。对照实验表明，数字ELISA的背景来自于检测抗体和酶的非特异性结合（NSB）与捕获珠表面结合（补充表2）。AsSiMoA相比传统检测方法具有更高的标记灵敏度，明显减少了检测抗体（~1nM)和酶标记物（1–50pM)的需要，以检测结合事件，与传统方法相比（标记试剂浓度~10nM)。降低的标记物浓度减少了NSB到捕获表面，从而导致背景信号明显降低。 芯弃疾JX-8B数字ELISA，超敏检测，低可测试到亚皮克级；微型数字ELISA准确宽
数字ELISA芯片的标准化生产与质量控制，依托自研的单分子PDMS芯片产线，数字ELISA芯片实现了从材料制备到成品质检的全流程标准化。硅模制备精度控制在±1μm，确保磁珠捕获结构的一致性；PDMS预聚体真空脱气处理消除气泡干扰，键合强度>3MPa保障反应体系密封。成品质检环节通过荧光显微镜与自动计数系统，对磁珠捕获率（>95%）、荧光背景值（<500RLU）进行100%全检，良品率稳定在98%以上。标准化生产流程不仅保障了芯片性能的批次间一致性，更通过SPC统计过程控制持续优化工艺，为临床大规模应用提供了可靠的质量保证，推动数字ELISA技术从实验室走向产业化。单分子蛋白数字ELISA高灵敏单分子POCT产品-数字化ELISA芯片，帮您数字化高灵敏检测，且微量样本多重指标检测；
微量样本超多重检测芯片：亚pg级灵敏度与高通量的协同创新，微量样本超多重检测芯片突破传统技术限制，单通道**多设计21个检测区，单个芯片并联8-16个**通道，检测速度达288-336测试/小时，性能媲美化学发光技术，灵敏度达亚pg级别。其“省样本、省耗材、省空间”优势***：5μl微量进样适配稀缺样本，21项指标共享一套耗材降低成本，桌面式扫描仪节省实验室空间。在**普查中，该芯片可同时筛查29种肺*标记物，筛选特异性>80%的组合（如CEA、SA、CA242），提高早期诊断准确性；在炎症因子检测中，对IL-1β、IL-6等低丰度细胞因子的检测线性范围宽泛，为疾病早期***筛查提供了高效解决方案，尤其适合大规模流行病学调查与个体化医疗中的多因子分析。
芯弃疾JX-8B数字ELISA产品
每个生物实验室都用得起的单分子免疫检测
通过SiMoA对酶标记物进行数字检测的线性动态范围由区分“开启”和“关闭”孔的能力决定。在酶与珠子的比例较低（小于约1：10）时，泊松统计表明，只有统计学上有效果的群体珠子是指含有零和一个酶的珠子。只要足够多的珠子被检测，单个酶就可以被检测到，并且活性珠子的数量会超过泊松分布计数活性微球的噪声。在酶与微球的高比率（大于约（1：10），活性珠子的比例变得更高，泊松统计表明有大量含有多种酶的微球。为了定量检测到的酶的数量并保持含有多种酶的微球亚群中的线性对于酶，我们使用泊松统计法将活性珠子的数量转换为检测到的酶的数量 芯弃疾JX-8B数字ELISA，微量检测，使用微量样本就能测试；
芯片材料与结构设计：生物相容性与稳定性保障，数字ELISA芯片的材料选择与结构设计充分考量生物相容性与长期稳定性。基底采用高透光玻璃或PDMS软硅胶，确保荧光信号无衰减采集；表面亲疏水涂层处理减少非特异性蛋白吸附，磁珠捕获效率提升30%。在多指标芯片中，**检测区的物理隔离设计避免交叉污染，通道间串扰率<0.5%。针对POCT芯片的便携需求，采用硬质塑料封装，耐温范围-20℃~60℃，确保运输与存储中的结构稳定性。这些设计细节保障了芯片在复杂生物样本中的可靠运行，延长了试剂保质期，为临床大规模应用奠定了基础。芯弃疾单分子芯片依托单分散阵列化技术，实现飞克级高灵敏检测，可捕获数十万反应磁珠。创新性数字ELISA极速
芯弃疾JX-8B单分子ELISA检测产品，微量样本可同时测2-4个指标；！微型数字ELISA准确宽
创新性的解决方案：芯弃疾JX-8B数字ELISA
我公司推出的数字化高灵敏ELISA芯片检测产品应用场景：适合生物实验室、医学实验室、科研市场、产品预研、产品开发、ELISA检测、动物病情检测等各种应用场景应用范围：各种高灵敏多重免疫检测，可替代各种ELISA试剂盒，及其他免疫检测产品。
将约5cm长的光纤束依次抛光使用30微米、9微米和1微米尺寸的金刚石研磨膜的机器。抛光光纤在0.025M盐酸溶液中化学蚀刻130秒，然后立即浸入水中以抑制反应。蚀刻后的光纤在水中复溶5秒，在水中洗涤5分钟，然后在真空下干燥。光纤束阵列的中心玻璃和包层玻璃的蚀刻速率差异caused4.5-μmdiameter孔在中心光纤中形成30。更初研究了不同蚀刻时间对孔深的影响。如果孔太深，则每个孔中沉积多个微珠。井口密封性被破坏；如果井口太浅，则无法将微球保留在井内，且观察到加载效率较差。对于单个微球而言，井口深度of3.25±0.5μm是比较好的，同时保持良好的密封性。 微型数字ELISA准确宽
