点光源与光纤导光：精细聚焦与微距应用在机器视觉中，当需要极高亮度、极小光斑或深入狭窄空间进行照明时，点光源结合光纤导光技术成为关键解决方案。点光源指能产生高度汇聚光束的单元，而光纤则负责将光线从发生器高效、灵活地传导至远端微小区域。其重点优势在于：极高的光强密度，可将强大光能汇聚于微小目标点；出色的灵活性与可达性，光纤细小柔韧，可轻易伸入设备内部、深孔、缝隙或复杂结构周围进行照明，不受空间限制；有效的热隔离，光源发生器可远离检测点，避免热量影响敏感被测物或光学元件；光斑形状可控，通过在光纤输出端加装微型透镜或光阑，可精确控制光斑的大小、形状和照射角度。点光源光纤照明在微电子（芯片、引线键合、焊点检测）、精密机械（微型齿轮、钟表零件）、生物医学以及需要局部高亮照明的场景（如微小划痕、特定标记点检查）中不可或缺。选择时需平衡光强需求、光斑尺寸、光纤长度和光源的稳定性。无影光源保证360度均匀无阴影。衢州高亮大功率环形光源平行同轴
光源在半导体与电子制造业的关键应用半导体和电子制造业（SMT,PCB组装，芯片封装）是机器视觉应用只密集、要求只严苛的领域之一，光源在其中解决诸多关键检测难题：焊点检测（AOI-AutomatedOpticalInspection）：需要多角度照明（如环形光不同角度、穹顶光）揭示焊锡的光泽、形状、润湿角、桥接、虚焊等特征。特定波长（如蓝光）对微小缺陷敏感。元件存在/缺失、极性、错件：通用环形光、同轴光提供清晰整体图像。引线键合（WireBonding）：高倍显微下，点光源/光纤照明精细照亮微小焊点与金线，查断线、弧度、位置偏移。晶圆（Wafer）检测：表面缺陷（划痕、颗粒、沾污）：高均匀性明场（同轴光、穹顶光）或暗场照明（低角度光突显微小凸起）；图案（Pattern）对准/缺陷：高分辨率同轴光或特定波长照明；薄膜厚度测量：利用干涉或光谱反射，需要特定波长光源。PCB缺陷（断路、短路、蚀刻不良）：高分辨率背光查线路通断、线宽；表面照明查阻焊、字符、污染。BGA/CSP球栅阵列：X光更常用，但光学上可用特殊角度照明观察边缘球。小型化趋势：推动微型、高亮度、高均匀性光源（如微型环形光、同轴光）发展。光源的稳定性、均匀性、波长精确性和可控性对微电子检测至关重要。苏州环形光源双向无影高角度环形正确打光是视觉检测的关键。
传统的彩色（RGB）机器视觉基于人眼三色原理，而多光谱（Multispectral）和高光谱（Hyperspectral）成像则通过获取物体在数十至数百个连续窄波段下的图像，揭示更丰富的光谱指纹信息。这对光源提出了特殊要求：宽光谱覆盖：光源需要提供足够强度且均匀的照明，覆盖从紫外、可见光到近红外（UV-VIS-NIR，如350-1000nm或更宽）的宽范围。常用高亮度卤钨灯（稳定连续光谱）或特定组合的LED阵列（覆盖关键波段）。光谱稳定性：光源的光谱输出必须高度稳定，避免漂移影响分析结果。卤钨灯需恒流供电，LED需精确控温控流。均匀性要求极高：不仅是空间均匀性，光谱均匀性（不同位置光谱成分一致）同样关键，否则会导致光谱数据失真。可能需要积分球匀光或精密光学设计。照明方式适配：根据应用（反射、透射、荧光）选择前向照明（如环形光、穹顶光）、背光或特定角度照明。高光谱光源常用于：材料分类与鉴别（塑料分选、矿物分析）；化学成分检测（农产品糖度、水分、成熟度；药品有效成分）；生物医学应用（组织病理、细胞分析）；精细农业（作物健康监测）；环境监测；防伪等。光源的性能（亮度、稳定性、均匀性、光谱范围）是获得高质量光谱数据立方体并进行有效分析的前提。
环形光源因其结构的对称性和应用的**性，成为机器视觉领域更常用。其基本构造是将多颗LED灯珠均匀地排列在一个环形电路板上，这个环可以紧密地安装在相机镜头周围，从而提供一种直接、均匀且无影的照明效果。环形光源的重点价值在于其能够为平面或轻微曲面的物体提供整体均匀的照明，非常适合用于一般的定位、尺寸测量、粗糙的表面缺陷检测以及简单的字符识别应用。根据光线出射角度的不同，环形光源可以进一步细分为多种类型以满足特定需求：直射型环形光光线直接照射物体，能产生较高的对比度，但对于高反光表面容易形成耀斑；漫射型环形光则在LED前增加了漫射板，使光线变得柔和均匀，能有效减少镜面反射，更适合于光滑表面的检测；低角度环形光则将LED安装成使其光线以极低的角度掠射物体表面，这种设计能够 dramatically地凸显出物体表面的微小起伏、划痕、刻印字符或纹理，因为这些微小的不平整会散射光线进入相机镜头，从而在暗背景下形成明亮的特征图像。选择环形光源时，需要仔细考虑其直径、照射角度、是否漫射以及LED的颜色。尽管环形光源非常通用，但对于具有深孔、复杂三维结构或极端反光的物体，可能需要与其他类型的光源组合使用才能达到理想的效果。均匀性好的光源减少误判。
偏振光在机器视觉中的应用：消除反光与增强对比度偏振光技术是解决物体表面镜面反射（眩光）和增强特定特征对比度的有效光学手段。其基本原理是利用偏振片控制光波的振动方向。典型应用模式有两种：第一种是“光源+偏振片，相机镜头前加偏振片”：光源发出的非偏振光经起偏器变为线偏振光照射物体。物体表面反射光包含镜面反射（通常保持原偏振方向）和漫反射（偏振方向随机）。相机镜头前的检偏器若旋转至与起偏器方向垂直，则可有效阻挡镜面反射光，同时允许部分漫反射光通过，从而突出抑制眩光，使被眩光覆盖的表面纹理、划痕、印刷图案等得以显现。第二种是只相机镜头前加偏振片，用于过滤环境光中的偏振干扰。偏振照明特别适用于检测光滑表面（金属、玻璃、塑料、漆面）的划痕、凹陷、异物、油污等。配置时需仔细调整光源与相机偏振片的相对角度（通常正交效果比较好），并考虑光线入射角的影响。虽然会增加成本并损失部分光强，但在解决棘手反光问题时效果突出。红光光源常用于单色相机。包头高亮大功率环形光源光栅同轴
点光源聚焦于局部精细检测。衢州高亮大功率环形光源平行同轴
线阵扫描成像中的光源同步技术线阵相机通过逐行扫描运动中的物体来构建完整图像，广泛应用于连续材料（纸张、薄膜、金属带材、印刷品）的在线高速检测。这种成像方式对光源提出了独特且严苛的要求：高瞬时亮度和严格的同步控制。重要挑战在于，为了在高速运动（物体移动和相机行扫）下获得清晰、无运动模糊的图像，每行像素的曝光时间必须极短（微秒级）。这就要求光源能在极短的瞬间（与相机行频同步）爆发出超高亮度（远高于连续照明模式）来“冻结”运动。因此，高频、高亮度、精确可控的频闪（Strobe）光源成为线阵扫描系统的标配。LED光源因其快速响应特性（微秒级开关）成为优先。系统需要精确的触发与同步机制：通常由编码器（测量物位置置/速度）或外部传感器发出触发信号，光源控制器据此精确控制频闪的起始时刻、持续时长（脉宽）和强度，确保闪光脉冲恰好覆盖相机单行或多行曝光的时间窗口，并与物体的运动位置严格同步。光源的均匀性（沿扫描方向的线光源均匀性）和稳定性（避免亮度波动）也至关重要，直接影响图像质量和检测一致性。合理设计线光源的形状（细长条形）、长度（覆盖扫描宽度）、照射角度以及与物体的距离，是实现高效、可靠线阵检测的关键环节。衢州高亮大功率环形光源平行同轴
