视觉光源——带领未来，点亮视界 在当今高科技飞速发展的时代，视觉光源技术正以其独特的魅力，带领着照明与成像行业的革新潮流。作为我们公司的重要产品，视觉光源不仅案例着先进的光学科技，更是我们不断追求突出、创新发展的象征。 视觉光源，以其突出的稳定性和出色的光源品质，为各类机器视觉系统提供了强大的支持。无论是在工业自动化生产线上，还是在精密检测仪器中，视觉光源都发挥着至关重要的作用。它能够准确还原被照物体的真实色彩与细节，为后续的图像处理和分析奠定坚实基础。 我们的视觉光源产品，拥有多种型号和规格，可满足不同客户和应用场景的多样化需求。从高亮度的LED光源，到均匀照明的背光板，再到专为特定行业定制的特殊光源，我们始终致力于为客户提供比较好质、专业的视觉光源解决方案。 选择我们的视觉光源，您不仅选择了一种产品，更选择了一种对品质生活的追求。我们相信，通过我们的不断努力和创新，视觉光源技术将在更多领域绽放光彩，为人们的生产和生活带来更多便利与惊喜。 让我们携手共进，以视觉光源为带领，开启智能照明与成像的新篇章！侧向光检测物体表面划痕。四川条形光源平行
在某些实践中，工程师们掌握着丰富的光源“调色板”：环形光源： 提供均匀柔和照明，是元件定位、外观检测的通用利器。背光源： 创造高对比度轮廓，专精于尺寸量测、透光材料杂质筛查。同轴光源： 通过特殊光学设计实现“垂直”照明，是光滑平面字符识别、划痕检测的比较好法门。穹顶光源： 多角度漫射光包裹复杂曲面，彻底消除反光死角，为球状或多面体零件检测提供无影环境。条形光源组合： 灵活布局应对大视野或特殊方向特征增强需求。吉林环形光源高亮无影环形机械臂联动光源跟踪焊接路径，照度波动小于5%。
环形光源因其结构的对称性和应用的**性，成为机器视觉领域更常用。其基本构造是将多颗LED灯珠均匀地排列在一个环形电路板上，这个环可以紧密地安装在相机镜头周围，从而提供一种直接、均匀且无影的照明效果。环形光源的重点价值在于其能够为平面或轻微曲面的物体提供整体均匀的照明，非常适合用于一般的定位、尺寸测量、粗糙的表面缺陷检测以及简单的字符识别应用。根据光线出射角度的不同，环形光源可以进一步细分为多种类型以满足特定需求：直射型环形光光线直接照射物体，能产生较高的对比度，但对于高反光表面容易形成耀斑；漫射型环形光则在LED前增加了漫射板，使光线变得柔和均匀，能有效减少镜面反射，更适合于光滑表面的检测；低角度环形光则将LED安装成使其光线以极低的角度掠射物体表面，这种设计能够 dramatically地凸显出物体表面的微小起伏、划痕、刻印字符或纹理，因为这些微小的不平整会散射光线进入相机镜头，从而在暗背景下形成明亮的特征图像。选择环形光源时，需要仔细考虑其直径、照射角度、是否漫射以及LED的颜色。尽管环形光源非常通用，但对于具有深孔、复杂三维结构或极端反光的物体，可能需要与其他类型的光源组合使用才能达到理想的效果。
同轴漫射光源（DomeLight）：解决高反光表面的利器面对具有镜面或高度反光表面（如金属、抛光塑料、镀层、玻璃、光滑芯片）的物体时，传统的直接照明会产生强烈的眩光（HotSpot），淹没关键特征信息。同轴漫射光源，常被称为穹顶光（DomeLight），是解决这一挑战的有效方案。其重要设计是一个半球形的漫射内腔，内壁密布LED。光线经半球内壁的多次漫反射后，形成来自四面八方的、极其柔和且均匀的漫射光照射到被测物表面。这种照明方式的精髓在于：它将点光源或小范围光源扩展为一个大面积的、近乎理想的“面光源”，突出减小了物体表面法线方向微小变化引起的光强剧烈波动。结果是，即使是高度反光的表面，也能呈现均匀的灰阶，有效抑制眩光，同时清晰地显现出表面细微的纹理变化、划痕、凹坑、异物或字符，而不会被强烈的反射光斑掩盖。穹顶光特别适用于检查金属加工件（车削、铣削、冲压）、光滑注塑件、电子元件（芯片、连接器）、镜片、珠宝等。选择时需关注穹顶尺寸（匹配视场和工作距离）、开口大小、漫射材料均匀性以及光源亮度。其缺点是结构相对较大，可能占用较多空间。碗状光源适合深腔体内部照明。
光源在半导体与电子制造业的关键应用半导体和电子制造业（SMT,PCB组装，芯片封装）是机器视觉应用只密集、要求只严苛的领域之一，光源在其中解决诸多关键检测难题：焊点检测（AOI-AutomatedOpticalInspection）：需要多角度照明（如环形光不同角度、穹顶光）揭示焊锡的光泽、形状、润湿角、桥接、虚焊等特征。特定波长（如蓝光）对微小缺陷敏感。元件存在/缺失、极性、错件：通用环形光、同轴光提供清晰整体图像。引线键合（WireBonding）：高倍显微下，点光源/光纤照明精细照亮微小焊点与金线，查断线、弧度、位置偏移。晶圆（Wafer）检测：表面缺陷（划痕、颗粒、沾污）：高均匀性明场（同轴光、穹顶光）或暗场照明（低角度光突显微小凸起）；图案（Pattern）对准/缺陷：高分辨率同轴光或特定波长照明；薄膜厚度测量：利用干涉或光谱反射，需要特定波长光源。PCB缺陷（断路、短路、蚀刻不良）：高分辨率背光查线路通断、线宽；表面照明查阻焊、字符、污染。BGA/CSP球栅阵列：X光更常用，但光学上可用特殊角度照明观察边缘球。小型化趋势：推动微型、高亮度、高均匀性光源（如微型环形光、同轴光）发展。光源的稳定性、均匀性、波长精确性和可控性对微电子检测至关重要。干涉照明增强薄膜缺陷对比度，厚度检测±10nm。湖北高亮条形光源平行同轴
定制光源满足特殊检测需求。四川条形光源平行
光源均匀性：概念、重要性及评估方法光源均匀性是衡量照明场光强分布一致性（均匀程度）的关键指标，对机器视觉检测精度至关重要，尤其在进行定量测量（如尺寸、色度）或大面积检测时。不均匀照明会导致图像不同区域亮度差异：过亮区域可能饱和丢失细节，过暗区域信噪比差难以分析，这种亮度梯度会被误判为物体本身的特征变化（如厚度不均、颜色渐变），严重影响检测结果的一致性和可靠性。均匀性通常定义为：Uniformity=[1-(Max-Min)/(Max+Min)]*100%，其中Max和Min是测量区域内多个采样点的亮度值。理想值为100%，工业应用中通常要求>80%甚至>90%。评估均匀性需要使用光强计或经校准的参考相机，在设定的工作距离下，在有效照明区域内按网格（如5x5或9x9）测量多个点的亮度值，然后计算。影响均匀性的因素众多：LED个体的亮度/色温差异、排列密度、光学设计（透镜、漫射板）的质量与老化、供电稳定性、结构遮挡、距离变化等。改善均匀性的方法包括：选用高质均光板（如乳白亚克力、匀光膜）、优化LED排布（增加密度、交错排列）、采用积分球原理（穹顶光）、精确控制光源距离、定期校准维护。在系统设计阶段就必须将均匀性作为重要参数进行验证和优化。
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