光源在半导体与电子制造业的关键应用半导体和电子制造业（SMT,PCB组装，芯片封装）是机器视觉应用只密集、要求只严苛的领域之一，光源在其中解决诸多关键检测难题：焊点检测（AOI-AutomatedOpticalInspection）：需要多角度照明（如环形光不同角度、穹顶光）揭示焊锡的光泽、形状、润湿角、桥接、虚焊等特征。特定波长（如蓝光）对微小缺陷敏感。元件存在/缺失、极性、错件：通用环形光、同轴光提供清晰整体图像。引线键合（WireBonding）：高倍显微下，点光源/光纤照明精细照亮微小焊点与金线，查断线、弧度、位置偏移。晶圆（Wafer）检测：表面缺陷（划痕、颗粒、沾污）：高均匀性明场（同轴光、穹顶光）或暗场照明（低角度光突显微小凸起）；图案（Pattern）对准/缺陷：高分辨率同轴光或特定波长照明；薄膜厚度测量：利用干涉或光谱反射，需要特定波长光源。PCB缺陷（断路、短路、蚀刻不良）：高分辨率背光查线路通断、线宽；表面照明查阻焊、字符、污染。BGA/CSP球栅阵列：X光更常用，但光学上可用特殊角度照明观察边缘球。小型化趋势：推动微型、高亮度、高均匀性光源（如微型环形光、同轴光）发展。光源的稳定性、均匀性、波长精确性和可控性对微电子检测至关重要。蓝光结构光测量陶瓷裂纹，精度±0.05mm。芜湖条形光源平面无影
光源设计的精密考量维度：光谱博弈： 材料的光学特性决定波长策略。短波蓝光（450nm）能强力增强金属表面纹理反差；近红外光（850nm）可穿透特定塑料或生物组织进行内部成像；紫外光（365nm）则能激发荧光物质显现隐藏标记。角度雕刻： 光线入射方向如同刻刀。低角度照明（10°-30°）使微小凹凸投下长影，凸显划痕、焊点等三维缺陷；高角度漫射光能“抚平”曲面反光，适用于球状物体检测；垂直同轴光则通过特殊分光镜技术彻底消除镜面眩光，成为玻璃、晶圆检测的关键。稳定性基石： 光源亮度与色温的毫厘波动将导致算法误判。工业级LED凭借超长寿命（>50,000小时）、低温升特性、瞬时响应（微秒级开关）及nice的亮度一致性，成为严苛工业环境的优先。智能光源甚至集成闭环亮度反馈系统，确保十年如一的稳定输出。大同高亮条形光源紫外多光谱光源切换波长，实现复合材料分层缺陷智能判别。
线阵扫描成像中的光源同步技术线阵相机通过逐行扫描运动中的物体来构建完整图像，广泛应用于连续材料（纸张、薄膜、金属带材、印刷品）的在线高速检测。这种成像方式对光源提出了独特且严苛的要求：高瞬时亮度和严格的同步控制。挑战在于，为了在高速运动（物体移动和相机行扫）下获得清晰、无运动模糊的图像，每行像素的曝光时间必须极短（微秒级）。这就要求光源能在极短的瞬间（与相机行频同步）爆发出超高亮度（远高于连续照明模式）来“冻结”运动。因此，高频、高亮度、精确可控的频闪（Strobe）光源成为线阵扫描系统的标配。LED光源因其快速响应特性（微秒级开关）。系统需要精确的触发与同步机制：通常由编码器（测量物体的位置/速度）或外部传感器发出触发信号，光源控制器据此精确控制频闪的起始时刻、持续时长（脉宽）和强度，确保闪光脉冲恰好覆盖相机单行或多行曝光的时间窗口，并与物体的运动位置严格同步。光源的均匀性（沿扫描方向的线光源均匀性）和稳定性（避免亮度波动）也至关重要，直接影响图像质量和检测一致性。合理设计线光源的形状（细长条形）、长度（覆盖扫描宽度）、照射角度以及与物体的距离，是实现高效、可靠线阵检测的关键环节。
同轴漫射光源（DomeLight）：解决高反光表面的利器面对具有镜面或高度反光表面（如金属、抛光塑料、镀层、玻璃、光滑芯片）的物体时，传统的直接照明会产生强烈的眩光（HotSpot），淹没关键特征信息。同轴漫射光源，常被称为穹顶光（DomeLight），是解决这一挑战的有效方案。其重要设计是一个半球形的漫射内腔，内壁密布LED。光线经半球内壁的多次漫反射后，形成来自四面八方的、极其柔和且均匀的漫射光照射到被测物表面。这种照明方式的精髓在于：它将点光源或小范围光源扩展为一个大面积的、近乎理想的“面光源”，突出减小了物体表面法线方向微小变化引起的光强剧烈波动。结果是，即使是高度反光的表面，也能呈现均匀的灰阶，有效抑制眩光，同时清晰地显现出表面细微的纹理变化、划痕、凹坑、异物或字符，而不会被强烈的反射光斑掩盖。穹顶光特别适用于检查金属加工件（车削、铣削、冲压）、光滑注塑件、电子元件（芯片、连接器）、镜片、珠宝等。选择时需关注穹顶尺寸（匹配视场和工作距离）、开口大小、漫射材料均匀性以及光源亮度。其缺点是结构相对较大，可能占用较多空间。智能光控适配0.5%-98%反射率表面，动态调节响应<0.1s。
光源均匀性：概念、重要性及评估方法光源均匀性是衡量照明场光强分布一致性（均匀程度）的关键指标，对机器视觉检测精度至关重要，尤其在进行定量测量（如尺寸、色度）或大面积检测时。不均匀照明会导致图像不同区域亮度差异：过亮区域可能饱和丢失细节，过暗区域信噪比差难以分析，这种亮度梯度会被误判为物体本身的特征变化（如厚度不均、颜色渐变），严重影响检测结果的一致性和可靠性。均匀性通常定义为：Uniformity=[1-(Max-Min)/(Max+Min)]*100%，其中Max和Min是测量区域内多个采样点的亮度值。理想值为100%，工业应用中通常要求>80%甚至>90%。评估均匀性需要使用光强计或经校准的参考相机，在设定的工作距离下，在有效照明区域内按网格（如5x5或9x9）测量多个点的亮度值，然后计算。影响均匀性的因素众多：LED个体的亮度/色温差异、排列密度、光学设计（透镜、漫射板）的质量与老化、供电稳定性、结构遮挡、距离变化等。改善均匀性的方法包括：选用高质均光板（如乳白亚克力、匀光膜）、优化LED排布（增加密度、交错排列）、采用积分球原理（穹顶光）、精确控制光源距离、定期校准维护。在系统设计阶段就必须将均匀性作为重要参数进行验证和优化。
环形白光LED光源提供无影照明，适用于精密零件表面划痕检测，支持0.1mm级缺陷识别。杭州条形光源环境条形
微秒级频闪光源冻结高速产线运动，捕捉线材生产形变误差。芜湖条形光源平面无影
点光源与光纤导光：精细聚焦与微距应用在机器视觉中，当需要极高亮度、极小光斑或深入狭窄空间进行照明时，点光源结合光纤导光技术成为关键解决方案。点光源指能产生高度汇聚光束的单元，而光纤则负责将光线从发生器高效、灵活地传导至远端微小区域。其重点优势在于：极高的光强密度，可将强大光能汇聚于微小目标点；出色的灵活性与可达性，光纤细小柔韧，可轻易伸入设备内部、深孔、缝隙或复杂结构周围进行照明，不受空间限制；有效的热隔离，光源发生器可远离检测点，避免热量影响敏感被测物或光学元件；光斑形状可控，通过在光纤输出端加装微型透镜或光阑，可精确控制光斑的大小、形状和照射角度。点光源光纤照明在微电子（芯片、引线键合、焊点检测）、精密机械（微型齿轮、钟表零件）、生物医学以及需要局部高亮照明的场景（如微小划痕、特定标记点检查）中不可或缺。选择时需平衡光强需求、光斑尺寸、光纤长度和光源的稳定性。芜湖条形光源平面无影
