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可以使积水的绝缘增层膜同时实现低损耗、在不降低粘性的同时保持低表面粗糙度、以及通过更好的延展性实现高弯折强度。通过以上这些特性，为下一世代的IC载板更低插损、更细线路、并且在维持高制造良率的同时提高可靠性。此外，积水作为一个胶带&膜类供应商会提供多种厚度的绝缘增层膜去满足市场的需求DetailedTechnicalInformationTechnicalInformationMeltViscosity(NX04H)DownloadDocumentsMeltViscosity(NQ07XP)FLSHASTReliability(NX04H/NQ07XP)LtLHASTReliability(NX04H/NQ07XP)InsertionLoss(NX04H/NQ07XP)我们绝缘增层膜的客户ToppanPrintingCo.,Ltd.南亞電路板股份有限公司Future积水正在开发一种新的热固化型绝缘增层膜，它将成为未来高速通信所需的各种技术问题的解决方案。sekisui积水胶带，830型号齐全！厦门防滑积水胶带总代理

    1.产品特点可低温无加压组装无需底部填充与焊膏相比，允许在更小的区域内连接更多的端子多种电极（AU、Ag、Cu等）2.应用场景ScreenPrintMount&ReflowX-rayLEDConnecter推荐不允许翘曲的零件不能负重的部位电极一直线排列3.概要SAP（环氧树脂+焊料粒子+助焊剂+硬化）AssemblyBehaviorofSAPHome按设备种类搜索LCD・触屏OLED・mini/μLED电子零件基板・半导体相机模组外装零件LED功率器件电池按应用场景搜索手机・平板TV・PC汽车电子穿戴式AR/MR/VR一般家电无人机・产业机器人通信基础设施数码相机・录像机按产品类别搜索胶带膜粘合剂微粒子粉体・水溶液泡沫体凝胶片喷胶成型品印刷线路板按功能搜索接着・粘着防水防尘精密控制间隔保护热管理导电低介电常数和低传输损耗反射・遮光防震减震电磁波控制其他。 佛山泡棉积水胶带供应商家sekisui积水23#胶带，型号齐全！

ODF用框胶PhotolecS系列UV+加热硬化的液晶面板组装用粘着剂1.产品特征液晶抗污染性好，不会造成液晶显示不良使用方便，可绘性（点胶性）对于配向膜等非金属材质也具有良好的粘合性2.工序POTORI测试结果胶水周边无液晶显示不良3.黑色UV硬化胶单组分无溶剂UV（高温）硬化胶1产品特点可以用于透明基材，并保证无漏光高遮光性均一性高，杂质含有量低高粘合力，低透湿性低污染性（液晶，有机材料等）2使用例LCD玻璃基板间的封胶LCD截面图光学镜片的粘合镜头模组

    低温低压的条件下促使金属接合的导电胶1.产品特征低厚度连接（）低温低压实装（ACF的1/2）也可以实装窄间距连接（150um）（连接器的一半）无气泡实装金和铜电极连接可能高速数据传输（USB）2.使用例代替连接器相机模组的连接3.信赖性条件結果粘接力90°peel20N/cm热冲击-40/85℃1000cycle耐湿行85℃85%1000h绝缘性85℃85%15V1000h实装条件温度：140℃压力：：10秒按设备种类搜索LCD・触屏OLED・mini/μLED电子零件基板・半导体相机模组外装零件LED功率器件电池按应用场景搜索手机・平板TV・PC汽车电子穿戴式AR/MR/VR一般家电无人机・产业机器人通信基础设施数码相机・录像机按产品类别搜索胶带膜粘合剂微粒子粉体・水溶液泡沫体凝胶片喷胶成型品印刷线路板按功能搜索接着・粘着防水防尘精密控制间隔保护热管理导电低介电常数和低传输损耗反射・遮光防震减震电磁波控制其他。 sekisui积水胶带，5220PSB型号齐全！

也由于该粒子较低的复原率，可用于控制柔软材质的基材的厚度。产品情报微粒子黑色均一树脂微粒子【MicropearlKB】聚合物polymer颗粒，其中分散着粒径分布均匀的黑色颜料，具有良好的黑色度，遮光性，吸水性，耐热性和耐化学性。产品情报导热胶液晶显示屏用ODF框胶【PhotolecS系列】高粘接强度，低透湿性的UV+热固化粘合剂。也可提供黑色遮光型号。产品情报导热胶UV即硬化型粘合剂【PhotolecA】光固化，高度透明的粘合剂，无氧抑制和高反应性。杂质含量低，耐回流。可着色。产品情报导热胶UV延迟固化低透湿度粘着剂【PhotolecE】UV照射后，有延迟固化型和立即固化型两种型号。低排气，低透湿性。产品情报导热胶UV（B阶段）+湿气固化型粘接剂【PhotolecB】简易加工（弯曲的表面，细线），遮光区可固化，对不同材料具高附着力，应力緩和性能（固化后的灵活性，厚度保持，抗冲击性），可重工。sekisui积水3808BH胶带，型号齐全！单面积水胶带推荐货源

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    UV照射后产生GAS，可以从接着体上剥离开来。特征UV照射后粘着剂自行产出氮气使粘力下降，可在晶圆不受外力的情况下实现自行剥离。用途晶圆化学镀UBM时的背面保护膜、防止晶圆在剥离中受损用途例镀UBM的工艺适用前处理(alkali碱溶液，PH9）后处理（强酸，强碱）镀金属处理（Ni，Au等）特性一般物性项目单位胶带厚度基材25μm粘着剂30μm项目单位SUSSiWafer金粘着力初期N/：180度剥离UV照射：1000MJ晶圆/芯片制造工艺相关产品一览产品分类产品名特征UV剥离胶带耐热，高附着力，易剥离的UV胶带，用于半导体工艺【SELFAHS】结合了耐半导体工艺特性+低残胶的UV剥离胶带。在各种PKG制造过程中可保护器件表面并抑制翘曲。UV剥离胶带高耐热，高粘附力，易剥离的双面UV胶带，用于临时键合工艺【SELFAHW】结合了耐半导体工艺特性+低残胶的UV剥离胶带。用于玻璃乘载工艺時，保持高平坦度且兼顧操作使用時的安全。UV剥离胶带UV自行剥离胶带用于化学镀金UBM工艺【SELFA-MP】具有高耐化学性和低残留性的UV剥離胶帶；透过UV照射产生气体，剥離時可减少對设备的损伤。 厦门防滑积水胶带总代理