河北真空金相制样机

低倍组织热酸蚀装置HSC-2000产品特点：1、采用计算机及可控硅控制低倍组织热酸蚀过程，独特的PID温度控制计算方法，消除了低倍组织制样过程的不确定性，提高低倍组织制样的重复性。2、触摸屏操控显示，简单直观。3、控制单元和酸蚀槽工作分开设计，增加控制单元工作寿命。4、酸蚀槽采用特殊材料制作，耐酸耐高温，封闭的酸蚀槽确保腐蚀溶液的挥发对环境的污染和人体的伤害。5、采用三层样品隔离放置方式，样品取放方便且增加了工作空间，改善了腐蚀***性。6、有排液阀门，方便排放腐蚀废液。7、样品托盘可完全取出，清洗容易。8、紧凑的酸蚀槽，完全可与抽风柜配合使用，增加工作环境的舒适性。9、尺寸多样性，完全可以按照客户要求定制。金相自动磨抛机中心加压。河北真空金相制样机

全自动镶嵌机HC-300产品特点：1、电动液压系统精细控制压力，确保脆性试样。2、预热功能可以缩短制样加热时间。3、制样单元也控制系统隔离设计，方便清理维护。4、直观触摸屏的操作，参数设置方便，一键启动，同时可以看到制样温度与压力变化。5、***总制样剩余时间与进度条过程进度显示。6、支持中英文语言切换，屏幕显示亮度设置，3种提示音选择。7、强大用户自定义方法数据库，支持中英文输入，可存储25条方法数据，特殊需求可扩展。8、三种制样方法模式，适合不同材料试样。贵州数显台式金相电解抛光双盘双控金相磨抛机 工作时间可自行设定。

正置金相显微镜OC-30DOC-30D正置金相显微镜适用于对不透明物体进行显微观察。本仪器配置落射照明器、长距平场消色差物镜(无盖玻片)、大视野目镜和内置偏光观察装置，具有图像清晰、衬度好，操作方便等特点，是金属学、矿物学、精密工程学、电子学等研究的理想仪器。适用于学校、科研、工厂等部门使用。 正置金相显微镜OC-30DOC-30D正置金相显微镜适用于对不透明物体进行显微观察。本仪器配置落射照明器、长距平场消色差物镜(无盖玻片)、大视野目镜和内置偏光观察装置，具有图像清晰、衬度好，操作方便等特点，是金属学、矿物学、精密工程学、电子学等研究的理想仪器。适用于学校、科研、工厂等部门使用。

镶嵌脱模剂1、FMR1：350ml/瓶以喷雾罐式包装，可均匀喷至模具表面，适合热镶嵌机和冷镶嵌模的脱模2、FMR2：200ml/瓶液体，适合热镶嵌机和冷镶嵌模的脱模镶嵌脱模剂1、FMR1：350ml/瓶以喷雾罐式包装，可均匀喷至模具表面，适合热镶嵌机和冷镶嵌模的脱模2、FMR2：200ml/瓶液体，适合热镶嵌机和冷镶嵌模的脱模镶嵌脱模剂1、FMR1：350ml/瓶以喷雾罐式包装，可均匀喷至模具表面，适合热镶嵌机和冷镶嵌模的脱模镶嵌脱模剂1、FMR1：350ml/瓶以喷雾罐式包装，可均匀喷至模具表面，适合热镶嵌机和冷镶嵌模的脱模2、FMR2：200ml/瓶液体，适合热镶嵌机和冷镶嵌模的脱模金相试样自动镶嵌机冷腐蚀。

晶间腐蚀仪OCT-4S产品特点：1、不锈钢操作台，耐腐蚀，方便维护清理。2、加热盘表面抗腐蚀处理，增加加热器寿命，操作安全。3、触摸屏操作，直观简单方便操作。4、用户可以自定义方法数据库，可储存100条。可将常用的参数储存。5、温度直接控制溶液温度，更精确。6、4工位单独控制工作，增加制样效率。7、温度超温保护，并且对温度传感器检测。8、有冷凝水传感器检测，无水停机报警。9、有漏电和短路保护。10、可选择漏液传感器检测，有漏液停机报警。11、可电脑远程控制操作。12、可连接循环冷凝水，不依赖外来水源，使冷凝水得到多次利用。13、可配通风柜操作使用，当有蒸汽泄漏时，漏液传感器检测到后停机并且自动打开通风柜，避免给操作员身体带来伤害。金相自动切割机哪种好。吉林真空金相磨抛

金相试样研磨抛光机 不锈钢晶间腐蚀。河北真空金相制样机

抛光粉一、用途                                                                                                抛光粉通常由氧化铈、氧化铝、氧化硅等组份组成。不同的材料的硬度不同，在水中的化学性质也不同，因此使用场合各不相同。通常，氧化铈抛光粉用于玻璃和含硅材料的抛光，氧化铝抛光粉用于不锈钢的抛光。                                    二、规格参数                                                                                                   1、金刚石抛光微分：粒度：0.25um, 0.5um, 1um, 1.5um, 2.5um, 3um, 3.5um, 6um, 7um, 10um, 14um, 20um, 28um, 40um，供用户自己选用载体，进行研磨抛光；                                                                    2、氧化铝研磨抛光粉：粒度：0.05um,0.3um,0.5um, 1um, 1.5um, 2.5um, 3um, 3.5um, 5um, 6um, 7um, 9um, 10um, 14um, 15um, 20um, 28um, 40um，用于研磨抛光；                                                              3、碳化硅研磨抛光粉：粒度：0.5um, 1um, 1.5um, 2.5um, 3.5um, 7um, 10um, 14um, , 20um, 28um, 40um，用于研磨抛光；                                                                                                  4、氧化铬抛光粉：粒度：0.5um,1um，用于研磨抛光；                                                                                              河北真空金相制样机