制药工业符合GMP认证的纯化水设备 • 水质符合2000版药典标准和GMP中的各项规定 • 设备全自动运行和有条件的全自动处理程序（如反冲洗、再生、酸洗、***程序） • 单体和管道设备符合GMP的要求（如后端处理设备如杀菌器、膜滤、终端水箱、管路均采用316L材料，预处理设备的管路采用UPVC管材） 纯化水水质标准： 电阻率：≥0.5MΩ.CM，电导率：≤2μS 氨≤0.3μg/ml 硝酸盐≤0.06μg/ml 重金属≤0.5μg/ml 典型医药用纯水制备工艺流程 • 原水－原水加压泵－多介质过滤器－活性炭过滤器－软水器－精密过滤器－***级反渗透－PH调节－中间水箱－第二级反渗透（反渗透膜表面带正电荷）－纯化水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－微孔过滤器－用水点推荐新工艺 • 原水－原水加压泵－多介质过滤器－活性炭过滤器－软水器－精密过滤器－一级反渗透设备－中间水箱－中间水泵－离子交换器－纯化水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－微孔过滤器－用水点传统工艺 • 原水－原水加压泵－多介质过滤器－活性炭过滤器－软水器－精密过滤器－一级反渗透机－中间水箱－中间水泵－EDI系统－纯化水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－微孔过滤器－用水点新工艺 IONPURE模块上海纯超环保量大从优。浙江专业IONPURE模块厂家直供
美国Ionpure EDI模块混床在运行过程中，其内部的树脂分为饱和区，交换区，新生区。饱和区的树脂已经被离子饱和，不再具有从进水中交换离子的功能；交换区的树脂处于部分饱和状态，离子交换主要在交换区完成；新生区的树脂尚未发生离子交换。随着混床的运行，饱和区和交换区将逐步向上移动，新生区的空间将减少，直到被穿透。新生区的存在是产水的保证，而新生区被穿透的时候，也就意味着混床产水水质将下降，混床是需要用药品再生。天津知名IONPURE模块推荐厂家IONPURE模块上海纯超环保各种型号出售。
IONPURE LX系列模块特点 双“O”型圈密封，保证无泄漏运行； 不需要浓水循环； 不需要注入盐水； 超级电气绝缘； 100psi，113°F(45°C) 连续运行。 可靠、耐用的工业设计 IONPURE公司从1986年发明了连续电解去离子技术(简称CEDI)开始，一直致力于新产品的开发与技术改进，其中包括为工业特殊应用而设计的LX系列模块，其突出的优点如下： 比较大的可靠性； 专利的“浓水槽”树脂填充技术，无需循环泵和盐水注入； 很大的低运行成本； 操作方便；
3、原水水质的优劣程度，纯净水产量的大小直接影响RO膜的使用寿命，为保证RO膜正常工作，需要对RO膜进行定期维护，此项工作必须由专业人员或在专业人员的授意下完成，非专业人员或未征得专业人员授意不得擅自清洗、拆卸、对RO膜进行随意处理。如若非经本厂专业人员授意，随意拆卸高、增压泵，断水保护，反渗透系统等主机主要部件，造成损坏的，本厂概不负责。
4、设备闲置时，必须断水断电，放净设备内所有积水，设备不得在高温与零下温度的环境内放置。
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EDI电除盐模块清洗及消毒模式
•直通逆流（低及高pH值都可）再循环（氧化剂）
•可选清洗模式: 再循环,或直通,顺流(低及高 pH值都可)
步骤
注意: 以下列出的流速为直通情况。再循环清洗及消毒过程在通常情况下都以相同流速进行。
•步骤 1. 氯化钠 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)
•步骤 2.
a) 低pH值: 盐酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)
或
b) 高pH值: 氢氧化钠NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)
或
c) 氧化剂: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +过氧化氢H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)
•按照说明书配制用于商业浓度的RO消毒溶液（阅读上面所提的清洗化学品规范要求）。总体来说，浓水为已用水按1：100的比例稀释过。
• (*按照步骤 2a或 2b 步骤 2c后不要求.)
氯化钠 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)
•步骤 4.水冲洗: 将RO产水水质的水引入浓水管线环中直到产水电导率>0.02 MO或等 同于进水(至少为 2 L (0.5 gal))
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超纯水比较好选择CEDI Ionpure IPLX可提供﹕LX膜块主体﹐电源供应原件﹐DC电源供应器﹐DC电源显示面板及管路安装配件﹔该膜块通常安装与RO纯水设备之后并提供下列优势。 ***稳定及符合工业级需求之比较好原件 ****避免漏水之运转设计 *机简易之配管及回路设计需求 *提供完整之电源供应原件 *可提供单一膜块**电源供应 *可显示个别膜块所消耗之电压及安培数 *膜块设计比较高可承受工作压力100psi *膜块设计比较高可承受工作温度45℃(113℉) *高温**膜块比较高可承受工作温度80℃(176℉) *安全毋需停机再生﹐影响制程 *毋需使用酸碱再生也无废水排放 浙江专业IONPURE模块厂家直供
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