膜系统处理:超纯水制备的“隐形屏障”DTRO膜系统:在垃圾渗滤液、高盐废水处理中,DTRO膜**阻垢剂通过抗高压、抗污染设计,防止膜表面结垢与浓差极化,保障系统稳定运行压力≤6MPa,出水水质达标率100%。超滤/纳滤膜:在食品饮料、医药行业的预处理环节,膜阻垢剂可拦截胶体、微生物等污染物,防止膜孔堵塞,延长膜清洗周期2-3倍。反渗透(R... 【查看详情】
传统酸蚀制程中,蚀刻液的不均匀流动、局部蚀刻速率过快等因素,易导致线路边缘产生毛刺、缺口、不规则凸起等缺陷,影响线路边缘平整度与产品品质。Goldwell®酸蚀添加剂可有效改善边缘效应,减少此类问题的发生。 产品通过调节蚀刻液的表面张力与蚀刻反应速率,使蚀刻液在线路边缘的流动更均匀,蚀刻反应更平稳,避免局部过度蚀刻或蚀刻不足;同... 【查看详情】
在工业生产的全流程中,清洁环节是保障设备稳定运行、提升产品品质、践行绿色生产的支撑,更是企业实现高效运营、降低运维成本的关键环节。点石安达®深耕工业清洗领域,以博士研发团队为技术支撑,聚焦各类工业场景的清洁需求,打造涵盖高效清洗、环保、酸性、碱性、金面、多功能、水基、去离子、工业级、电子、金属、矿冶、耐腐、温和去污、浓缩型、定制清洗、... 【查看详情】
点石安达®公司凭借20年的精研去膜经验和博士团队的智慧结晶,打造了一系列高性能的去膜剂产品。这些产品具有高效去膜、绿色安全、基材无损、选性干膜去除等优势,广泛应用于金面去膜、铝基处理、MSAP制程、线路板脱膜、半导体用去膜等多个行业和场景。通过实际客户案例的应用验证,点石安达®去膜剂产品能够为企业提升生产效率、降低成本、保障产品质量,... 【查看详情】
半导体产品具有精度高、材质敏感等特点,对去膜剂的要求极高,注重低残留、温和无损伤、高洁净度,点石安达®去膜剂全系列产品能够精细适配半导体用去膜场景,满足半导体生产的精细去膜需求。 在半导体去膜场景中,点石安达®选择性干膜去除剂、去膜剂(通用型)能够温和去除半导体表面的膜层与干膜,无残留、无损伤,确保半导体的精度与性能,避免因去膜... 【查看详情】
生化污水处理场景:针对生化池、好氧曝气池、厌氧池、污泥发酵系统产生的大量生物泡沫、有机泡沫,产品环保无毒,不破坏微生物菌群活性,不影响污水处理菌种代谢与降解效率,高效消除池面溢流泡沫,保障曝气溶氧稳定,提升污水净化效率,避免泡沫溢出造成现场污染、药剂流失。 循环水系统场景:适配工厂循环冷却水、冷却塔、蒸发系统、中水回用循环管路,... 【查看详情】
电子元件种类繁多,包括电阻、电容、电感、连接器等,其生产过程中的去膜需求各不相同,点石安达®去膜剂全系列产品能够适配各类电子元件的去膜场景,确保电子元件的品质与性能。 在电子元件常规去膜场景中,点石安达®去膜剂(通用型)能够高效去除电子元件表面的膜层、油污,去膜后无残留、无损伤,确保电子元件的导电性能与外观状态,提升产品良率。 ... 【查看详情】
锡面金属产品广泛应用于电子、机械、五金等行业,其生产过程中的去膜需求注重锡面防护、护锡同步、无损伤,点石安达®护锡去膜剂、锡面保护剂能够精细适配锡面金属产品的去膜与保护需求。在锡面金属产品去膜场景中,点石安达®护锡去膜剂能够在去除膜层的同时保护锡层,实现护锡同步去膜,避免锡层氧化、腐蚀、损伤,维持锡层的焊接性能与外观状态,契合护锡同步... 【查看详情】
技术创新是点石安达®的**竞争力,公司高度重视研发投入,组建了一支以清华、中科大等博士为中心的专业研发团队,团队成员均具备深厚的精细化工、材料科学、电子制造等相关领域背景,拥有多年去膜剂产品研发与行业应用经验。研发团队始终聚焦行业痛点与技术前沿,密切关注电子、金属、矿冶等行业的技术升级需求,持续探索新配方、新工艺、新技术,将前沿科研成果与... 【查看详情】
二十余年风雨深耕,点石安达®公司始终坚守“技术为本、品质为先、服务为基、绿色共赢”的经营理念,以消泡剂核心产品为纽带,链接各行各业工业客户。选择点石源原厂消泡剂,企业客户可收获多重价值: 1.生产提质:泡沫难题,优化工艺流程,提升产品加工精度、成品良率,减少泡沫导致的次品、废品损耗; 2.成本降耗:低添加量高效起效,大幅降... 【查看详情】
金属厂阻垢系列:专门为钢铁、铝材、铜材等金属厂的连铸、热轧、冷轧、酸洗、电镀等环节的循环冷却水及废水设计。 优势:复合阻垢缓蚀,同时抑制结垢与腐蚀,对碳钢、不锈钢、铜合金均有保护作用。耐油耐乳,在含少量油和乳化液的浊环水中不失效。耐高温,适用于热轧直接冷却水系统(水温可达60~80℃)。 应用:金属厂净循环水、浊循环水、冲... 【查看详情】