金面类清洗剂针对性适配金面材质的清洁需求,特征围绕轻柔清洁、保护金面展开,具体如下: 1.安全无毒,无刺激:无刺激性气味,不含有毒有害成分,使用过程中不会对操作人员造成伤害,也不会对金面材质造成二次污染。 2.操作便捷,易漂洗:可采用擦拭、浸泡等清洁方式,操作简单便捷,泡沫易漂洗,减少漂洗次数,节省水资源。金面类清洗剂适用... 【查看详情】
技术创新是点石安达®的**竞争力,公司高度重视研发投入,组建了一支以清华、中科大等博士为中心的专业研发团队,团队成员均具备深厚的精细化工、材料科学、电子制造等相关领域背景,拥有多年去膜剂产品研发与行业应用经验。研发团队始终聚焦行业痛点与技术前沿,密切关注电子、金属、矿冶等行业的技术升级需求,持续探索新配方、新工艺、新技术,将前沿科研成果与... 【查看详情】
针对不同类型的污渍,点石安达®针对性优化配方:强力除垢类清洗剂能够快速溶解硬质水垢、锈迹,恢复设备换热效率与表面光洁度;高效清洗类产品能够快速剥离顽固油污,减少人工刷洗工作量;精密洗净类产品能够去除细微污渍与残留,满足高精度生产需求。与传统清洗剂相比,点石安达®清洗剂的清洁效率提升,能够有效减少清洁次数与清洁时间,降低人工成本,提升企... 【查看详情】
产品经过大量实验验证与实际生产应用测试,性能稳定可靠,添加后可提升蚀刻因子,减少线路毛刺与边缘不规则蚀刻问题,提升线路边缘平整度,改善线路品质,降低产品不良率,提升制程良率。 在实际生产场景中,使用Goldwell®酸蚀添加剂后,客户可减少因线路精度不足、边缘缺陷导致的返工与报废,降低材料损耗与人工成本,提升生产效率与经济效益。... 【查看详情】
点石安达®始终坚持技术发展,组建以清华、中科大等高校博士为研发团队,汇聚化工、材料、电子等多领域专业人才的研发团队。团队成员平均从业经验超10年,深耕精细功能化学品研发领域,具备扎实的理论基础与丰富的实践经验,熟悉电子、金属、矿冶等行业的制程痛点与技术需求,先后主导多项酸蚀添加剂、清洗助剂、表面处理剂等产品的研发与迭代,积累大量技术与... 【查看详情】
无硅系列:高洁净度,避免后顾之忧特征:完全不含硅油成分,基于聚醚、高碳醇、脂肪酸酰胺等有机化合物。点石安达®这类产品的研发,旨在满足对硅元素有严格要求的特定工艺。 优势:无硅残留:有效避免了硅斑、缩孔、附着力下降等因硅残留可能引发的二次问题。 清洗用:良好的性能使其成为工业清洗剂、水性涂料的常用选择,有助于保障清洗对象和涂... 【查看详情】
点石安达®去膜剂全系列产品注重基材保护,采用温和配方,添加**缓蚀、保护成分,能够在去膜过程中形成一层保护膜,避免去膜剂对基材造成腐蚀、损伤,确保基材的完整性与原有性能,保护产品品质,减少因基材损伤导致的不良品,提升制程良率。 针对不同类型的基材,点石安达®优化产品配方,提升产品的适配性:铝基板去膜剂、铝保护剂专门适配铝基材质,... 【查看详情】
技术驱动:博士研发团队+国标起草单位 点石安达®研发团队以清华大学、中国科学技术大学等前列高校博士后为团队,构建了从实验室到生产线的全自主创新体系。公司不*是《有机硅消泡剂》国家标准(GB/T26527-2024)的起草单位之一,还拥有20余项发明专利,其中“一种垃圾渗滤液蒸发用消泡剂及其制备方法”(专利号:ZL 2022 1 ... 【查看详情】
服务优势:全链护航,全程无忧 点石安达®构建高效运营服务平台,打造“研发-生产-销售-服务”全链条服务体系,为客户提供一站式、全天候技术支持与售后服务。 售前服务:提供水质检测、垢样分析、系统诊断服务,出具专业阻垢解决方案与药剂选型建议; 售中服务:专业技术团队一对一指导药剂投加、设备调试、参数优化,确保产品快速落地... 【查看详情】
水处理行业:解决三大痛点 生化池泡沫疯长:Goldwell®生化消泡剂可快速消除活性污泥法中的泡沫,避免超声波液位计误判导致的泵空转,溶氧量提升25%,出水COD达标率从90%提升至99%。 膜系统污染:Goldwell®无硅消泡剂与RO膜兼容性较好,解决传统消泡剂导致的膜堵塞问题,使佛山某环保企业反渗透产水率提高10%。... 【查看详情】
针对不同类型的膜层与去膜场景,点石安达®针对性优化产品配方:去膜加速剂能够提升去膜速度,缩短去膜周期,适配对生产效率要求较高的场景;选择性干膜去除剂能够精细去除干膜,不影响其他膜层与基材,减少返工率;护锡去膜剂能够在去膜的同时保护锡层,避免二次处理,简化生产流程。与传统去膜剂相比,点石安达®去膜剂的去膜效率提升,能够有效减少去膜次数与... 【查看详情】