点石安达®去膜剂全系列产品注重性价比,通过技术创新与生产优化,在保证产品品质与效果的同时,有效降低产品成本,让客户以合理的投入获得质量的去膜效果。同时,产品的高效去膜特性能够减少去膜次数、缩短去膜时间、降低人工成本;绿色环保特性能够降低企业的环保处理成本,减少环保违规风险;基材保护特性能够减少不良品率,降低产品返工与报废成本;多场景适... 【查看详情】
结合成分、配方工艺、性能属性、型号分类,点石安达®全系列消泡剂分为有机硅消泡剂、无硅消泡剂、聚醚改性消泡剂三大品类,各品类特征清晰、定位明确,分别对应不同行业场景与工艺要求,完整覆盖工业全领域泡沫治理需求。 Goldwell®聚醚改性消泡剂融合有机硅与聚醚双向技术优势的改性产品,通过分子接枝改性技术优化结构。特征:兼具有机硅快速... 【查看详情】
厂家直供:可追溯的品质承诺,点石安达®厂家不*意味着自主生产,更意味着从原料采购、合成反应、复配灌装到成品检验,每一个环节都处于严苛的内部质量控制体系之下。我们杜绝外协代工,确保每一批次产品的一致性、稳定性与可追溯性。同时,原厂直接服务,技术沟通更高效,问题反馈直达研发端,响应速度更快。 博士研发体系:科学验证的性能保障我们的“... 【查看详情】
Goldwell®酸蚀添加剂为环保型精细化学品,不属于危险化学品,无易燃、易爆、腐蚀性、毒性等危险特性;产品外观为透明液体,无刺激性异味,正常使用条件下,对人体皮肤、眼睛无强烈刺激性,不会对操作人员身体健康造成危害。 但在使用过程中,仍需遵循化工操作安全规范:操作人员需经过专业培训,熟悉产品特性与使用方法;操作时需佩戴耐酸碱手套... 【查看详情】
去离子类清洗剂主打低离子残留,针对性适配精密清洁场景,特征如下: 1.低离子残留,高洁净度:采用去离子水为载体,搭配高效低离子清洁成分,清洁后设备、零件表面的离子残留极低,符合精密制造的清洁要求,适用于电子元件、半导体、精密零件等的清洁。 2.精密洗净,无杂质:能够去除细微污渍、灰尘、金属离子等杂质,清洁精度高,确保精密零... 【查看详情】
金蚀护边:在一些特殊的电子元件制造过程中,需要对金属进行蚀刻处理,同时保护金属边缘不受侵蚀。Goldwell®酸蚀添加剂的独特护边保护机制使其在金蚀护边方面具有一定优势。在金蚀过程中,添加Goldwell®可以形成有效的保护层,防止酸性溶液对金边缘的侧向蚀刻,确保金边缘的完整性和规整性,满足高精度电子元件的制造要求。 蚀刻增效:... 【查看详情】
点石安达®精细功能化学品,搭配强大研发实力,从药剂供应到技术支撑,一站式解决精细化的要求! 点石安达®无硅消泡剂:专为精密机械加工、光学器件、3C精密件、汽车精密零部件、半导体辅材加工、精细线路板加工等高洁净度场景设计,主打无硅、无残留、低析出、长效控泡、不污染工件与设备,彻底规避有机硅消泡剂带来的表面缺陷风险。 泡沫:泡... 【查看详情】
点石安达®铝保护剂主打铝基保护、防腐蚀,能够有效保护铝基材质,避免铝基氧化、发黑、腐蚀,同时可配合铝基板去膜剂使用,提升去膜后的铝基保护效果,特征如下: 1. 铝基保护,防氧化防腐蚀:采用保护配方,能够在铝基表面形成一层致密的保护膜,有效隔绝空气、水分等腐蚀介质,避免铝基氧化、发黑、腐蚀,维持铝基的原有色泽与导电性能。 2... 【查看详情】
侧蚀抑制是Goldwell®酸蚀添加剂的特征。产品中的特殊活性成分在蚀刻过程中,可快速选择性吸附于线路侧壁的铜表面,形成一层纳米级保护性薄膜。该薄膜具有良好的化学稳定性,可抵御蚀刻液的侧向腐蚀作用,同时不阻碍蚀刻液对线路底部铜层的垂直蚀刻反应,有效抑制侧蚀现象。 实际应用中,添加Goldwell®酸蚀添加剂后,线路侧壁倾斜角度减... 【查看详情】
随着国家环保政策的不断收紧,企业绿色生产的需求日益迫切,点石安达®始终将环保理念融入产品研发与生产的全过程,所有清洗剂产品均符合国家环保标准,无磷、无重金属、无有害挥发物,VOC含量严格控制在标准范围内,可生物降解,不会对土壤、水源、空气造成污染,切实践行绿色生产理念。 点石安达®环保清洗剂系列产品,采用环保型原料与配方,替代传... 【查看详情】
点石安达®去膜剂(通用型)是公司的**基础产品,主打高效去膜、多场景适配,能够满足大多数行业的常规去膜需求,特征如下: 1.高效去膜,剥离彻底:采用博士研发团队优化的复合配方,融入高效去膜成分与渗透剂,能够快速渗透到膜层内部,瓦解膜层分子结构,实现快速、彻底的去膜效果,无论是常规膜层、油污膜层,还是轻微顽固膜层,都能高效去除,去... 【查看详情】