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● 仪表盘面为MPa刻度值直接读取● 精度等级0.25% 0.4%● 双层镜面表盘● 设有度盘调零装置● 铁喷塑表壳● 铜合金内机部件● 测量范围-0.1至60MPa 外型尺寸示意图精密压力表的测量范...
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使用长焦距镜头拍摄具有以下几个方面的特点:一是视角小。所以,拍摄的景物空间范围也小,在相同的拍摄距离处,所拍摄的影像大于标准镜头,适用于拍摄远处景物的细部和拍摄不易接近的被摄体。二是景深短。所以,能使...
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2006年时,莱特完成了他相信几乎正确的复制品。莱特和安提基特拉机械研究计划成员仍同时进行安提基特拉机械的研究。莱特稍微修改他的模型,引进了计划团队建议的针状和槽状啮合齿轮,这更精确模拟了月球的角速度...
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世界三 大光刻机 生产商ASML,Nikon和Cannon的*** 代 浸 没 式 光 刻 机 样 机 都 是 在 原 有193nm干式光刻机的基础上改进研制而成,**降低了研发成本和风险。因为浸没式...
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半导体器件和集成电路对光刻曝光技术提出了越来越高的要求,在单位面积上要求完善传递图像的信息量已接近常规光学的极限。光刻曝光的常用波长是3650~4358 埃,预计实用分辨率约为1微米。几何光学的原理,...
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b、坚膜,以提高光刻胶在离子注入或刻蚀中保护下表面的能力;c、进一步增强光刻胶与硅片表面之间的黏附性;d、进一步减少驻波效应(Standing Wave Effect)。常见问题:a、烘烤不足(Und...
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1.气相成底模2.旋转烘胶3.软烘4.对准和曝光5.曝光后烘焙(PEB)6.显影7.坚膜烘焙8.显影检查光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)进行开...
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2019年荷兰阿斯麦公司推出新一代极紫外光刻系统,**了当今**的第五代光刻系统,可望将摩尔定律物理极限推向新的高度 [5]。中国工程院《Engineering》期刊于2021年组建跨学科评选委员会,...
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凸模是冲模中起直接形成冲件作用的凸形工作零件,即以外形为工作表面的零件。18、凹模凹模是冲模中起直接形成冲件作用的凹形工作零件,即以内形为工作表面的零件。19、防护板防护板是防止手指或异物进入冲模危险...
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光刻机系统是材料科学领域的关键设备,通过光学成像原理将掩模版上的微细图形精确转移到光刻胶表面。系统配置1Kw近紫外光源与6V/30W显微镜灯适配器,配备气动防震台保障精密操作环境,其技术参数截至202...
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西塞罗的著作《论共和国》,一本西元前一世纪的哲学对话录,提及两个现代被认为是某种天象仪或太阳系仪的仪器,可以预测日月和五颗行星在天球的位置。这两个仪器都是由阿基米德制造,在阿基米德于西元前212年的叙...
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1、广角镜头拍摄的景物,近处大、远处小,******效果夸张。被摄体越靠近镜头夸张越明显。所以,拍摄人像时,人物不能靠相机太近,否则很容易拍出“肥鼻鼠耳”的变形照片。当然,利用这种效果拍摄的艺术作品除...
查看详情 >2025.08.07 高新区购买光刻系统量大从优
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