工作原理：全自动自清洗过滤器通过压差控制或定时控制启动清洗流程。当过滤器内部杂质积累导致进出口压差达到设定值（通常为0.05-0.1MPa）时，控制系统触发电机驱动装置，带动吸污器或刷洗装置对滤网表面进行扫描式清洗，同时排污阀开启，将污物排出系统。清洗过程中无...

2025/09/09 查看详细

光刻胶过滤滤芯的作用及使用方法：光刻胶过滤滤芯的作用：光刻工艺中，光刻胶过滤滤芯是非常重要的一个环节。光刻胶经过过滤滤芯的过滤，可以去除杂质和微粒，保证光刻胶的纯度和稳定性，从而提高光刻胶的质量。同时，过滤滤芯还可以保护设备不受污染，减少光刻胶的使用量，降低生...

2025/09/05 查看详细

光刻胶通常由聚合物树脂、光引发剂、溶剂等组成，其在半导体制造、平板显示器制造等领域得到普遍应用。光刻胶的去除液及去除方法与流程是一种能够低衬底和结构腐蚀并快速去除光刻胶的去除液以及利用该去除液除胶的方法。该方法的背景技术是光刻是半导体制造工艺中的一个重要步骤，...

2025/09/05 查看详细

日常维护：检查真空泵运行时的状态，使用真空泵油雾分离器压力表检测是否堵塞。当压力表读数位于红色的区域时，说明油雾分离器已堵塞，必须更换。如果没有压力表，可以通过观察驱动电机电流的变化来测定油雾分离器的阻力。如果驱动电机消耗的电流或真空泵的流量下降，说明油雾分离...

2025/09/05 查看详细

全自动清洗过滤器是利用滤网拦截水中固态杂质及颗粒物，从而降低水的浑浊度，提高水质的过滤器专门使用设备。水是由进水口进入过滤器内部，机内的滤网对水中的杂质进行拦截。当滤网上的污物到一定的程度时系统会自动开启排污阀和机体内的排污机构对滤网上的杂质进行清洗及排除机体...

2025/09/04 查看详细

自清洗过滤器，运行及控制不需外接任何能源就可以自动清洗过滤，自动排污。反冲洗期间不断流，清洗过滤周期可以调节，自清洗过滤时间默认为10-60/s，清洗过滤损失水量只占过滤水量的0.08－0.6%；过滤精度可达10-3000微米；工作压力可达1.0-1.6Mpa...

2025/09/04 查看详细

油墨过滤器的维护和保养：为了确保油墨过滤器的正常工作和延长使用寿命，需要定期对其进行维护和保养。首先是定期清洗滤网，去除油墨残留和杂质，避免堵塞影响过滤效果；其次是检查过滤器的密封性能，确保油墨不能泄漏；此外，还需要注意过滤器的使用环境和工作温度，避免因外界因...

2025/09/04 查看详细

主要性能优势：优势维度具体表现：自动化水平全流程无人值守，清洗周期、排污时间可自定义设置，适配复杂工况。过滤效率滤芯精度范围5-200μm，支持高粘度、高杂质流体过滤，纳污量比传统单芯过滤器高30%以上。节能性清洗时只消耗系统自身流体（无需额外动力），能耗低至...

2025/09/04 查看详细

以下几点需要注意：1.确保供水和压力稳定：自清洗过滤器需要稳定的供水和压力，以保证清洗装置的正常工作。如果供水或压力不稳定，可能会影响清洗效果和过滤性能。2.定期检查控制系统：控制系统是自清洗过滤器的主要部分，需要定期检查其工作状态，确保其功能正常，避免因控制...

2025/09/03 查看详细

光刻胶的关键性能指标详解。在选择光刻胶时，了解其关键性能指标至关重要。以下是光刻胶的五大基本特性，帮助你更好地选择适合特定应用的光刻胶。灵敏度：灵敏度是衡量光刻胶曝光速度的指标。灵敏度越高，所需的曝光剂量越小。光刻胶通过吸收特定波长的光辐射能量来完成聚合物分子...

2025/09/03 查看详细

明确过滤精度需求：过滤精度是选择光刻胶过滤器的首要考量因素。不同工艺节点对颗粒控制的要求差异明显，必须严格匹配。传统微米级工艺通常使用1-5微米精度的过滤器即可满足需求。而现代纳米级制程往往需要0.05微米甚至更高精度的过滤方案。特别需要注意的是，EUV光刻工...

2025/09/03 查看详细

使用点（POU）分配过滤器​：POU 分配过滤器则安装在光刻设备的使用点附近，对即将用于光刻的光刻胶进行然后一道精细过滤。其过滤精度通常可达亚纳米级别，能够有效去除光刻胶中残留的微小颗粒、凝胶微桥缺陷、微孔缺陷以及金属污染等，确保涂覆在晶圆表面的光刻胶达到极高...

2025/09/02 查看详细